| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 膜分离技术 | 第11-13页 |
| 1.1.1 膜分离概述 | 第11-12页 |
| 1.1.2 膜分离的分类 | 第12页 |
| 1.1.3 膜分离技术优势 | 第12-13页 |
| 1.2 MBR工艺 | 第13-16页 |
| 1.2.1 MBR工艺技术及分类 | 第13-14页 |
| 1.2.2 MBR的特点 | 第14-15页 |
| 1.2.3 MBR的发展趋势 | 第15-16页 |
| 1.3 膜污染分析 | 第16-21页 |
| 1.3.1 膜污染形成机理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 膜污染的影响因素 | 第17-20页 |
| 1.3.3 膜污染的控制方法 | 第20-21页 |
| 1.4 PVDF膜的表面改性 | 第21-22页 |
| 1.4.1 表面物理改性 | 第21页 |
| 1.4.2 表面化学改性 | 第21页 |
| 1.4.3 光引发化学接枝改性 | 第21-22页 |
| 1.4.4 低温等离子体改性 | 第22页 |
| 1.5 膜清洗 | 第22-23页 |
| 1.5.1 物理清洗 | 第22页 |
| 1.5.2 化学清洗 | 第22-23页 |
| 1.5.3 超声波清洗 | 第23页 |
| 1.6 本论文研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| 1.6.1 论文研究的目的 | 第23页 |
| 1.6.2 论文研究的意义 | 第23-24页 |
| 1.7 论文的主要研究内容 | 第24-25页 |
| 2 PVDF-HFM的表面改性及表征 | 第25-38页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.1.2 实验试剂与设备 | 第25-26页 |
| 2.2 PVDF-HFM表面改性 | 第26-28页 |
| 2.2.1 PVDF膜组件的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.2 等离子体改性膜的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 PVDF-HFM表征分析 | 第28-37页 |
| 2.3.1 红外光谱（FT-IR）分析 | 第28-29页 |
| 2.3.2 扫描电镜（SEM）分析 | 第29-30页 |
| 2.3.3 Zeta电位测定 | 第30-35页 |
| 2.3.4 纯水通量 | 第35-37页 |
| 2.4 小结 | 第37-38页 |
| 3 膜在MBR中的运行效果比较 | 第38-53页 |
| 3.1 实验部分 | 第38-42页 |
| 3.1.1 实验装置及方法 | 第38-40页 |
| 3.1.2 实验分析方法 | 第40-42页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第42-51页 |
| 3.2.1 膜静态吸附性污染实验 | 第42-43页 |
| 3.2.2 临界压力 | 第43-44页 |
| 3.2.3 膜比通量衰减比较 | 第44-46页 |
| 3.2.4 膜阻力分析 | 第46-47页 |
| 3.2.5 膜清洗效果 | 第47-48页 |
| 3.2.6 膜Zeta电位变化分析 | 第48-49页 |
| 3.2.7 膜出水效果 | 第49-51页 |
| 3.3 小结 | 第51-53页 |
| 4 不同PVDF改性膜耐滤饼层污染性能评价 | 第53-61页 |
| 4.1 实验方法 | 第53-55页 |
| 4.1.1 滤饼压密模型 | 第53-55页 |
| 4.1.2 实验条件 | 第55页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第55-59页 |
| 4.2.1 滤饼比阻分析 | 第55-58页 |
| 4.2.2 滤饼压密性分析 | 第58-59页 |
| 4.3 小结 | 第59-61页 |
| 5 曝气强度对膜表面滤饼层的影响研究 | 第61-71页 |
| 5.1 实验方法 | 第61-62页 |
| 5.1.1 实验装置及材料 | 第61页 |
| 5.1.2 实验条件 | 第61-62页 |
| 5.2 实验结果与讨论 | 第62-70页 |
| 5.2.1 压力8.9kPa时不同气水比对滤饼层的影响 | 第62-67页 |
| 5.2.2 气水比17:1 时不同压差对滤饼层的影响 | 第67-70页 |
| 5.3 小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第78页 |