| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 课题来源和背景介绍 | 第10-11页 |
| 1.2 原子层沉积技术 | 第11-18页 |
| 1.3 温度影响及常规温控方法 | 第18-20页 |
| 1.4 模型预测控制 | 第20-26页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第26-28页 |
| 2 模型预测控制理论及方法 | 第28-40页 |
| 2.1 基于传递函数形式的模型预测控制算法 | 第28-36页 |
| 2.2 基于状态空间形式的模型预测控制算法 | 第36-39页 |
| 2.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 3 T-ALD系统设计及其温度的模型预测控制研究 | 第40-69页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 T-ALD系统研制 | 第40-47页 |
| 3.3 T-ALD温度特性分析 | 第47-52页 |
| 3.4 T-ALD系统温度场预测控制器设计 | 第52-63页 |
| 3.5 基于MPC温度控制系统的T-ALD薄膜沉积 | 第63-67页 |
| 3.6 本章小结 | 第67-69页 |
| 4 S-ALD系统设计及其温度的模型预测控制研究 | 第69-90页 |
| 4.1 引言 | 第69页 |
| 4.2 S-ALD系统研制 | 第69-75页 |
| 4.3 S-ALD温度特性分析 | 第75-78页 |
| 4.4 S-ALD系统温度场预测控制器设计 | 第78-85页 |
| 4.5 基于MPC温度控制系统的S-ALD薄膜沉积 | 第85-89页 |
| 4.6 本章小结 | 第89-90页 |
| 5 原子层沉积系统拓展设计及工艺研究 | 第90-103页 |
| 5.1 基于层叠状薄膜的原子层沉积系统设计 | 第90页 |
| 5.2 S-ALD工艺优化 | 第90-93页 |
| 5.3 层叠状ALD薄膜沉积 | 第93-97页 |
| 5.4 高效原子层沉积系统拓展设计 | 第97-99页 |
| 5.5 面向柔性衬底的原子层沉积系统拓展设计 | 第99-102页 |
| 5.6 本章小结 | 第102-103页 |
| 6 总结与展望 | 第103-105页 |
| 6.1 全文总结 | 第103-104页 |
| 6.2 研究展望 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-114页 |
| 附录 攻读学位期间取得的成果 | 第114-115页 |