| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 研究背景以及意义 | 第11-13页 |
| 1.2 国内外研究现状及存在问题 | 第13-16页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.3 存在问题 | 第16页 |
| 1.3 研究内容 | 第16-17页 |
| 1.4 研究方法 | 第17页 |
| 1.5 本章小结 | 第17-18页 |
| 第2章 单向流洁净室的基本原理与微电子洁净室送风方式 | 第18-28页 |
| 2.1 洁净室概述 | 第18页 |
| 2.2 单向流洁净室原理 | 第18-22页 |
| 2.2.1 单向流洁净室基本原理 | 第19页 |
| 2.2.2 洁净室压力 | 第19-20页 |
| 2.2.3 单向流洁净室特征指标 | 第20-22页 |
| 2.3 IC洁净室送风方式 | 第22-26页 |
| 2.3.1 隧道送风方式 | 第22-23页 |
| 2.3.2 集中送风方式 | 第23页 |
| 2.3.3 SMIF(微循环)送风方式 | 第23-24页 |
| 2.3.4 风机过滤单元送风方式 | 第24-26页 |
| 2.4 洁净室尘源 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 洁净室空气流动数值计算理论与建模 | 第28-39页 |
| 3.1 紊流流动的基本方程 | 第28-30页 |
| 3.2 紊流模拟方法 | 第30-34页 |
| 3.2.1 直接模拟(DNS) | 第30-31页 |
| 3.2.2 大涡模拟(LES) | 第31页 |
| 3.2.3 雷诺平均数模拟(RANS) | 第31-34页 |
| 3.3 离散方法 | 第34-35页 |
| 3.4 数值模拟算法 | 第35页 |
| 3.5 数值模拟计算软件介绍 | 第35页 |
| 3.6 试验验证 | 第35-38页 |
| 3.7 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 微电子洁净室室内流场计算 | 第39-49页 |
| 4.1 工程概况 | 第39-40页 |
| 4.2 洁净室数值模拟模型建立 | 第40-47页 |
| 4.2.1 网格无关性验证 | 第41-42页 |
| 4.2.2 洁净室空态模型 | 第42-43页 |
| 4.2.3 洁净室静态模型 | 第43-45页 |
| 4.2.4 空态洁净室与静态洁净室工作区气流分布比较分析 | 第45-47页 |
| 4.3 洁净室内流场对尘粒浓度的影响 | 第47-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 洁净室工作区气流组织影响因素分析 | 第49-83页 |
| 5.1 垂直单向流洁净室气流组织影响因素 | 第49-50页 |
| 5.1.1 送风影响 | 第49页 |
| 5.1.2 生产设备影响 | 第49-50页 |
| 5.2 洁净室工作区气流组织影响因素分析 | 第50-70页 |
| 5.2.1 设备高度2.7m | 第50-61页 |
| 5.2.2 设备高度2.6m | 第61-66页 |
| 5.2.3 设备高度2.5m～2.0m | 第66-70页 |
| 5.3 工作区与正上方送风口相对位置气流组织的影响分析 | 第70-79页 |
| 5.4 工作区宽度对气流组织的影响 | 第79-82页 |
| 5.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第6章 洁净室工作区气流组织优化措施 | 第83-91页 |
| 6.1 不同工艺设备高度送风速度设置 | 第83页 |
| 6.2 工作区宽度设置 | 第83-88页 |
| 6.3 局部增加FFU送风口 | 第88-89页 |
| 6.4 本章小结 | 第89-91页 |
| 结论 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-96页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第96页 |
