30CrMnSiNi2A钢表面二极溅射镀钽层的结构及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·钽的结构及性质 | 第11-14页 |
| ·钽的发展简介 | 第11页 |
| ·钽的物理性质 | 第11-12页 |
| ·钽的化学性质 | 第12-14页 |
| ·钽的机械性能 | 第14页 |
| ·钽薄膜的制备技术 | 第14-17页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第14-15页 |
| ·物理气相沉积（PVD） | 第15-17页 |
| ·钽的应用 | 第17-20页 |
| ·化学工业 | 第17-18页 |
| ·电子工业 | 第18页 |
| ·硬质合金 | 第18页 |
| ·汽车领域 | 第18-19页 |
| ·航空航天领域 | 第19页 |
| ·军事领域 | 第19页 |
| ·生物医学领域 | 第19-20页 |
| ·钽薄膜存在的主要问题及研究热点 | 第20页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 试验方案及设备 | 第22-30页 |
| ·试验材料 | 第22页 |
| ·基体材料的预处理 | 第22页 |
| ·试验方案 | 第22-28页 |
| ·钽薄膜的制备 | 第22-25页 |
| ·钽薄膜耐腐蚀性能试验 | 第25-28页 |
| ·分析方法和手段 | 第28-30页 |
| ·钽膜形貌观察 | 第28页 |
| ·钽膜表面粗糙度分析 | 第28页 |
| ·膜层厚度及沉积速率测试 | 第28页 |
| ·钽膜物相分析 | 第28-29页 |
| ·钽膜成分和化学态分析 | 第29页 |
| ·硬度测试 | 第29-30页 |
| 第3章 二极溅射制备钽薄膜的成分及结构研究 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·钽膜表面形貌观察 | 第30-32页 |
| ·钽膜截面形貌观察 | 第32-34页 |
| ·工艺参数对钽膜沉积速率的影响 | 第34-36页 |
| ·工艺参数对钽膜成分的影响 | 第36-40页 |
| ·工艺参数对钽膜相结构的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 通H_2 和烘烤除气对钽膜中氧含量的影响 | 第42-60页 |
| ·沉积过程中H_2 的通入对钽膜成分结构的影响 | 第42-50页 |
| ·工艺过程及参数 | 第42-43页 |
| ·膜层表面形貌观察 | 第43页 |
| ·膜层截面形貌观察 | 第43-44页 |
| ·H_2 的通入对薄膜沉积速率的影响 | 第44-45页 |
| ·薄膜的表面粗糙度 | 第45-47页 |
| ·H_2 的通入对膜层成分的影响 | 第47-49页 |
| ·薄膜的相结构分析 | 第49-50页 |
| ·沉积薄膜前烘烤除气对膜层成分结构的影响 | 第50-58页 |
| ·工艺过程及参数 | 第50-51页 |
| ·膜层表面形貌观察 | 第51-53页 |
| ·沉积前烘烤除气对钽薄膜成分的影响 | 第53-56页 |
| ·沉积前烘烤除气对钽薄膜相结构的影响 | 第56页 |
| ·钽靶表层成分分析及去除表面氧化层的方法 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 钽膜的硬度及耐腐蚀性能研究 | 第60-74页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·钽膜的硬度研究 | 第60-63页 |
| ·钽膜耐腐蚀性能测试 | 第63-73页 |
| ·盐雾腐蚀试验结果分析 | 第63-69页 |
| ·电化学腐蚀试验结果分析 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
