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碳基材料的制备与表征及其电子结构的理论研究

摘要第1-14页
ABSTRACT第14-19页
第一章 前言第19-28页
 参考文献第25-28页
第二章 实验和理论方法第28-43页
   ·各向同性热解碳的制备及表征方法第29-34页
   ·碳基材料的离子辐照及表征方法第34-37页
   ·量子力学从头算法的基本原理和密度泛函理论第37-42页
 参考文献第42-43页
第三章 各向同性热解碳涂层与碳化硅涂层的制备及表征第43-71页
   ·引言第44-47页
   ·辐照对各向同性热解碳结构及性能的影响第47-58页
   ·各向同性热解碳涂层及碳化硅涂层对熔盐浸渗的阻隔性研究第58-66页
   ·小结第66-67页
 参考文献第67-71页
第四章 碳化硅晶体中的缺陷结构与磁性第71-100页
   ·引言第72-73页
   ·质子注入碳化硅的磁性研究第73-83页
   ·~(14)N~+离子注入碳化硅的磁性研究第83-91页
   ·空位缺陷对单层碳化硅磁性的影响第91-95页
   ·小结第95-96页
 参考文献第96-100页
第五章 石墨炔电子结构和光学特性的理论研究第100-119页
   ·引言第101-104页
   ·π电子对石墨炔电子结构和光学性质的影响第104-110页
   ·石墨炔纳米带电子性质的理论研究第110-115页
   ·小结第115-116页
 参考文献第116-119页
第六章 总结第119-122页
致谢第122-123页
攻读博士学位期间发表的论文第123-125页
攻读博士学位期间申请的专利第125-126页
附录:外文论文第126-156页
附录:个人简历第156-158页
学位论文评阅及答辩情况表第158页

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