| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·特殊浸润性研究的理论基础 | 第10-13页 |
| ·理想表面的静态接触角和杨氏方程 | 第10-11页 |
| ·非理想固体表面的接触角 | 第11-12页 |
| ·接触角滞后及滚动角 | 第12-13页 |
| ·特殊浸润性的研究进展 | 第13-20页 |
| ·特殊浸润性在常温下的研究进展 | 第13-16页 |
| ·特殊浸润性在非常温下的研究进展 | 第16-20页 |
| ·模板法制备纳米阵列结构的研究 | 第20-23页 |
| ·模板的分类 | 第20页 |
| ·阳极氧化铝模板的应用研究 | 第20-23页 |
| ·课题的研究内容及研究意义 | 第23-24页 |
| 2 纳米柱孔阵列结构铜膜的可控制备 | 第24-42页 |
| ·前言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-29页 |
| ·实验试剂 | 第25-26页 |
| ·实验仪器 | 第26页 |
| ·实验步骤 | 第26-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-41页 |
| ·不同孔间距纳米柱孔阵列结构铜膜的制备 | 第29-31页 |
| ·不同孔径纳米柱孔阵列结构铜膜的制备 | 第31-34页 |
| ·不同孔深纳米柱孔阵列结构铜膜的制备 | 第34-37页 |
| ·丙酮处理对铜的纳米柱孔阵列结构的影响 | 第37-39页 |
| ·电镀电压对制备铜的纳米柱孔阵列结构形貌的影响 | 第39页 |
| ·电解液成分对制备铜的纳米柱孔阵列结构形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 3 纳米柱孔阵列结构铜膜的高温浸润性研究 | 第42-50页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-43页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第42-43页 |
| ·实验步骤 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-49页 |
| ·纳米柱孔阵列结构铜膜常温下浸润性的表征 | 第43-44页 |
| ·探索影响液滴弹跳点温度的因素 | 第44-45页 |
| ·在开放体系下纳米柱孔阵列结构铜膜的高温浸润性研究 | 第45-46页 |
| ·在氮气气氛保护下不同孔间距纳米柱孔阵列结构铜膜的高温浸润性研究 | 第46-48页 |
| ·在氮气气氛保护下不同孔径纳米柱孔阵列结构铜膜的高温浸润性研究 | 第48页 |
| ·在氮气气氛保护下不同孔径纳米柱孔阵列结构铜膜的高温浸润性研究 | 第48-49页 |
| ·纳米柱孔阵列结构高温浸润性转变的机理探索 | 第49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 4 聚碳酸酯纳米锥阵列结构抗凝露性能研究 | 第50-61页 |
| ·前言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-53页 |
| ·实验试剂 | 第51页 |
| ·实验仪器 | 第51页 |
| ·实验步骤 | 第51-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-57页 |
| ·孔间距300nm不同孔深的锥形AAO模板的制备和形貌表征 | 第53-54页 |
| ·热压印法制备不同高度的高分子纳米锥阵列结构 | 第54-55页 |
| ·氢氧化钠腐蚀时间对聚碳酸酯纳米锥形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·表面修饰前后疏水性变化 | 第56-57页 |
| ·聚碳酸酯纳米锥阵列结构抗凝露性能研究 | 第57-60页 |
| ·样品修饰前后抗凝露性能测试 | 第57-59页 |
| ·在不同外力作用下冷凝液滴的变化 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 5 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 附录 | 第70页 |
