摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 绪论 | 第12-23页 |
·引言 | 第12-13页 |
·电沉积在纳米科学中的应用 | 第13-16页 |
·电化学沉积和微电子学 | 第13-14页 |
·电化学沉积和纳米生物学 | 第14-16页 |
·电化学沉积磁性薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
·电化学沉积软磁薄膜的发展趋势 | 第17页 |
·研究动机 | 第17-20页 |
参考文献 | 第20-23页 |
第二章 理论基础 | 第23-39页 |
·铁磁材料的磁化强度和退磁场 | 第23-26页 |
·磁各向异性理论 | 第26-30页 |
·磁晶各向异性 | 第27页 |
·应力磁各向异性 | 第27-28页 |
·形状磁各向异性 | 第28-29页 |
·感生磁各向异性 | 第29-30页 |
·交换磁各向异性 | 第30页 |
·薄膜中的磁各向异性 | 第30-31页 |
·薄膜的动态磁化理论 | 第31-38页 |
·复数磁导率 | 第32-33页 |
·磁导率的频散和磁谱 | 第33-34页 |
·磁性薄膜的微波磁导率 | 第34-38页 |
·Landau-Lifshitz方程和磁导率的频散 | 第34-36页 |
·Snoek极限 | 第36页 |
·薄膜中静磁导率和共振频率之间的关系 | 第36-38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第三章 样品的制备及其性能表征 | 第39-60页 |
·样品的制备 | 第39-45页 |
·电化学沉积的特点 | 第39-40页 |
·电化学沉积的基本原理 | 第40-42页 |
·电沉积的结晶过程 | 第42页 |
·直流电沉积纳米晶的原理 | 第42-43页 |
·电化学沉积磁性薄膜的影响因素 | 第43-45页 |
·仪器和设备 | 第45页 |
·薄膜性能的表征方法 | 第45-59页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第45-47页 |
·X射线能量色散谱(EDS) | 第47-48页 |
·电感耦合等离子体(ICP)原子发射光谱 | 第48-49页 |
·振动样品磁强计(VSM) | 第49-51页 |
·表面探针式探针扫描台阶仪 | 第51-52页 |
·高频磁性的测量 | 第52-55页 |
·电子自旋共振谱仪(ESR) | 第55-57页 |
·激光打标机 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-60页 |
第四章 电沉积FeCoZr薄膜的高频软磁特性 | 第60-70页 |
·引言 | 第60页 |
·实验条件 | 第60-61页 |
·沉积电位对薄膜结构和磁性的影响 | 第61-62页 |
·Zr成分对薄膜磁性的影响 | 第62-63页 |
·添加剂对薄膜磁性的影响 | 第63-66页 |
·典型样品的分析 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-70页 |
第五章 在激光处理衬底上沉积FeCo图案化薄膜的软磁和高频性能 | 第70-90页 |
·引言 | 第70页 |
·实验条件 | 第70-71页 |
·在激光刻蚀的Si衬底上沉积图案化FeCo薄膜 | 第71-75页 |
·对Si衬底的激光处理和电沉积条件 | 第71-72页 |
·图案化薄膜的形貌和晶体结构 | 第72-74页 |
·图案化薄膜的静态磁性 | 第74-75页 |
·在激光刻蚀的ITO衬底上沉积图案化FeCo薄膜 | 第75-88页 |
·对ITO衬底的激光处理和电沉积条件 | 第75-76页 |
·条纹方向与外加诱导磁场平行时样品的磁特性 | 第76-79页 |
·条纹方向与外加诱导磁场垂直时样品的磁特性 | 第79-81页 |
·对结果的理论分析 | 第81-84页 |
·其它实验结果 | 第84-88页 |
参考文献 | 第88-90页 |
第六章 在弯曲衬底上沉积FeCo薄膜的高频磁性能 | 第90-98页 |
·引言 | 第90页 |
·实验条件和装置 | 第90-91页 |
·衬底曲率对薄膜结构的影响 | 第91-92页 |
·衬底曲率对薄膜磁性的影响 | 第92-95页 |
·衬底曲率对薄膜高频性能的影响 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-98页 |
第七章 软磁薄膜的铁磁共振研究 | 第98-110页 |
·引言 | 第98页 |
·铁磁共振原理 | 第98-101页 |
·实验结果 | 第101-104页 |
·铁磁薄膜中的自旋波共振 | 第104-107页 |
·小结 | 第107-108页 |
参考文献 | 第108-110页 |
第八章 结论 | 第110-114页 |
博士在学期间的研究成果 | 第114-116页 |
致谢 | 第116页 |