高硅铝合金阳极氧化工艺及耐蚀性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·铝及其合金概述 | 第10页 |
| ·铝合金的几种表面处理技术 | 第10-13页 |
| ·化学氧化处理 | 第10-11页 |
| ·阳极氧化技术 | 第11页 |
| ·微弧氧化技术 | 第11-12页 |
| ·其他表面处理技术 | 第12-13页 |
| ·铝及铝合金阳极氧化技术 | 第13-23页 |
| ·铝阳极氧化膜的形成机理 | 第13-14页 |
| ·阳极氧化膜的结构、组成及其生长过程 | 第14-18页 |
| ·阳极氧化膜性能的影响因素 | 第18-19页 |
| ·添加剂的使用 | 第19-20页 |
| ·铝阳极氧化膜的制备与封闭处理 | 第20-23页 |
| ·阳极氧化膜的应用 | 第23-24页 |
| ·高硅铝合金的种类及其应用 | 第24-26页 |
| ·选题目的及意义 | 第26页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验方法 | 第28-38页 |
| ·实验材料与仪器 | 第28-30页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·实验试剂 | 第28-29页 |
| ·实验仪器 | 第29页 |
| ·实验设备 | 第29-30页 |
| ·氧化膜的制备工艺流程 | 第30-31页 |
| ·实验预处理 | 第31-32页 |
| ·机械处理 | 第31页 |
| ·除油 | 第31页 |
| ·碱蚀 | 第31-32页 |
| ·酸洗 | 第32页 |
| ·去灰 | 第32页 |
| ·水洗 | 第32页 |
| ·阳极氧化实验 | 第32-33页 |
| ·基础电解液的研究 | 第32-33页 |
| ·添加剂对成膜质量的研究 | 第33页 |
| ·封闭处理 | 第33页 |
| ·氧化着色膜的质量评定 | 第33-36页 |
| ·氧化着色膜外观质量检测 | 第33-34页 |
| ·氧化膜厚度的测定 | 第34页 |
| ·氧化膜耐蚀性的评价 | 第34-35页 |
| ·封孔质量检测 | 第35-36页 |
| ·膜层物理检测 | 第36-38页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第36页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第36-37页 |
| ·X-射线能谱(EDS) | 第37-38页 |
| 第3章 高硅铝合金阳极氧化改进工艺的研究 | 第38-54页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·影响阳极氧化膜层性能的主要因素 | 第38-45页 |
| ·硫酸浓度对直流氧化膜膜层性能的影响 | 第38-40页 |
| ·电流密度对直流氧化膜膜层性能的影响 | 第40-42页 |
| ·电解液温度对直流氧化膜膜层性能的影响 | 第42-44页 |
| ·电解时间对直流氧化膜层性能的影响 | 第44-45页 |
| ·添加剂的选择 | 第45-51页 |
| ·阳离子作用 | 第46-48页 |
| ·阴离子作用 | 第48-49页 |
| ·有机物的作用 | 第49-51页 |
| ·封孔实验结果及分析 | 第51-53页 |
| ·耐蚀性能测定 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 阳极氧化膜的性能检测 | 第54-66页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·阳极氧化膜的外观 | 第54-55页 |
| ·氧化膜的横截面形貌 | 第55-56页 |
| ·膜厚试验 | 第56-57页 |
| ·中性盐雾试验(NSS) | 第57-59页 |
| ·氧化膜显微结构 | 第59-61页 |
| ·氧化膜封孔质量的评定 | 第61-62页 |
| ·指印试验结果 | 第61页 |
| ·无硝酸预浸的磷-铬酸法试验结果 | 第61-62页 |
| ·氧化膜的耐蚀性分析 | 第62-63页 |
| ·点滴试验 | 第62页 |
| ·滴碱试验 | 第62-63页 |
| ·氧化膜的XRD分析 | 第63页 |
| ·氧化膜电化学性能的研究 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第5章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
