| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-20页 |
| ·硒及金属硒化物概述 | 第9页 |
| ·金属硒化物薄膜的制备方法 | 第9-15页 |
| ·蒸发法 | 第10页 |
| ·化学气相沉积法 | 第10-11页 |
| ·溅射法 | 第11页 |
| ·分子束外延 | 第11页 |
| ·喷雾热解法 | 第11-12页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第12页 |
| ·化学水浴法 | 第12-13页 |
| ·水热/溶剂热法 | 第13页 |
| ·涂覆法 | 第13页 |
| ·电沉积法 | 第13-15页 |
| ·金属硒化物薄膜的电沉积制备研究进展 | 第15-18页 |
| ·ⅢA主族金属硒化物薄膜 | 第16页 |
| ·ⅣA主族金属硒化物薄膜 | 第16页 |
| ·ⅤA主族金属硒化物薄膜 | 第16-17页 |
| ·ⅠB副族金属硒化物薄膜 | 第17页 |
| ·ⅡB副族金属硒化物薄膜 | 第17页 |
| ·ⅥB副族金属硒化物薄膜 | 第17-18页 |
| ·ⅦB副族金属硒化物薄膜 | 第18页 |
| ·ⅦB族金属硒化物薄膜 | 第18页 |
| ·多元混合族金属硒化物薄膜 | 第18页 |
| ·选题目标与研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验方法 | 第20-28页 |
| ·实验试剂 | 第20页 |
| ·实验仪器 | 第20-21页 |
| ·实验方法 | 第21-23页 |
| ·溶液配制 | 第21-22页 |
| ·基底清洗 | 第22页 |
| ·循环伏安测试与电沉积制备 | 第22-23页 |
| ·薄膜表征 | 第23-28页 |
| ·扫描电镜及能谱仪 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射 | 第24页 |
| ·拉曼分析 | 第24页 |
| ·紫外-可见/紫外-可见-近红外分光光度计 | 第24-25页 |
| ·光电化学测试 | 第25页 |
| ·Mott-Schottky测试 | 第25-26页 |
| ·霍尔测试 | 第26页 |
| ·台阶仪 | 第26-28页 |
| 第三章 硒化铜铋薄膜的电沉积制备及性能表征 | 第28-44页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·Cu-Bi-Se溶液体系的电化学行为研究 | 第28-33页 |
| ·硒化铜铋薄膜的电沉积制备 | 第33-39页 |
| ·沉积电位对硒化铜铋薄膜成分和形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·沉积温度对硒化铜铋薄膜成分和形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·溶液pH值对硒化铜铋薄膜成分和形貌的影响 | 第36页 |
| ·沉积时间对硒化铜铋薄膜厚度的影响 | 第36-38页 |
| ·硒化铜铋薄膜的结构表征 | 第38-39页 |
| ·硒化铜铋薄膜的光学和电学性质 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 硒化锑铋薄膜的电沉积制备及性能表征 | 第44-65页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·Sb-Bi-Se溶液体系的电化学行为研究 | 第44-49页 |
| ·硒化锑铋薄膜的电沉积制备 | 第49-56页 |
| ·沉积电位对硒化锑铋薄膜成分和形貌的影响 | 第49-51页 |
| ·溶液温度对硒化锑铋薄膜成分和形貌的影响 | 第51-52页 |
| ·溶液pH值对硒化锑铋薄膜成分和形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·硒化锑铋薄膜的退火处理研究 | 第54-56页 |
| ·硒化锑铋薄膜的光学与电学性质 | 第56-59页 |
| ·锑铋原子比(Sb/Bi)对硒化锑铋薄膜结构和光学性质的影响 | 第59-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第81-82页 |