纳米硅薄膜晶体管制作及特性研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-21页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管研究现状及发展趋势 | 第8-19页 |
| ·非晶硅薄膜晶体管 | 第9-12页 |
| ·多晶硅薄膜晶体管 | 第12-14页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管 | 第14-19页 |
| ·本文研究目的与意义 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 纳米硅薄膜晶体管基本结构和工作原理 | 第21-33页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管结构分类 | 第21-23页 |
| ·共面结构 | 第22页 |
| ·交叠结构 | 第22-23页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管基本结构 | 第23-24页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管工作原理 | 第24-29页 |
| ·MOSFET 工作原理 | 第24-26页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管工作原理 | 第26-29页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管输出特性理论分析 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 纳米硅薄膜晶体管仿真分析 | 第33-38页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管仿真结构模型 | 第33-34页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管电学特性仿真 | 第34-36页 |
| ·输出特性 | 第34-35页 |
| ·转移特性 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 纳米硅薄膜晶体管制作工艺 | 第38-46页 |
| ·纳米硅薄膜制备 | 第38-42页 |
| ·XRD 测试分析 | 第39-40页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第40-41页 |
| ·AFM 研究 | 第41-42页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管制作工艺流程 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 实验结果与讨论 | 第46-57页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管输出特性 | 第46-50页 |
| ·单晶硅上纳米硅薄膜晶体管输出特性 | 第46-48页 |
| ·SiO_2层上纳米硅薄膜晶体管输出特性 | 第48-50页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管转移特性 | 第50-53页 |
| ·单晶硅上纳米硅薄膜晶体管转移特性 | 第51页 |
| ·SiO_2层上纳米硅薄膜晶体管转移特性 | 第51-53页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管跨导 | 第53-54页 |
| ·纳米硅薄膜晶体管温度特性 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文 | 第63页 |
| 攻读硕士学位期间科研项目 | 第63页 |
