| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·半导体纳米光催化剂的应用 | 第11-13页 |
| ·光催化污水处理 | 第11-12页 |
| ·光催化空气净化 | 第12-13页 |
| ·光催化保洁除菌 | 第13页 |
| ·半导体光催化剂的催化机理 | 第13-15页 |
| ·直接光催化 | 第14-15页 |
| ·敏化光催化 | 第15页 |
| ·半导体光催化剂的研究现状 | 第15-16页 |
| ·半导体光催化剂的改性技术 | 第16-19页 |
| ·金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·表面光敏化 | 第17-18页 |
| ·复合的氧化物半导体 | 第18页 |
| ·半导体表面贵金属修饰 | 第18-19页 |
| ·碳材料对光催化剂的改性 | 第19页 |
| ·石墨烯材料的制备研究 | 第19-23页 |
| ·石墨烯的结构 | 第19-21页 |
| ·石墨烯的制各手段 | 第21-23页 |
| ·光催化材料在开发中存在的主要问题 | 第23-24页 |
| ·选题的背景及依据 | 第24-25页 |
| ·选题主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 实验方案 | 第26-38页 |
| ·实验样品与实验仪器 | 第26-28页 |
| ·氧化石墨(Graphite Oxide)及石墨烯(Graphene)的制备 | 第28-29页 |
| ·氧化石墨的制备过程 | 第28页 |
| ·石墨烯的制备过程 | 第28-29页 |
| ·水热法合成Bi_2MoO_6样品 | 第29-30页 |
| ·水热法 | 第29-30页 |
| ·Bi_2MoO_6样品的制备 | 第30页 |
| ·石墨烯与光催化剂的杂化 | 第30-31页 |
| ·石墨烯复合TiO_2的制备 | 第30-31页 |
| ·石墨烯复合Bi_2MoO_6材料的杂化过程 | 第31页 |
| ·样品的表征手段 | 第31-32页 |
| ·光催化剂的催化性能的表征手段 | 第32-36页 |
| ·复合光催化剂降解亚甲基蓝溶液的过程 | 第34-35页 |
| ·石墨烯TiO_2复合材料在紫外光下进行降解 | 第35页 |
| ·石墨烯／Bi_2MoO_6复合材料在可见光下进行降解的实验过程 | 第35-36页 |
| ·光催化性能的表征 | 第36-38页 |
| 第三章 石墨烯修饰二氧化钛光催化剂的制备及性能研究 | 第38-46页 |
| ·制备氧化石墨(GO)的结果与讨论 | 第38-40页 |
| ·石墨,氧化石墨及石墨烯的XRD分析 | 第38-39页 |
| ·石墨,氧化石墨及石墨烯的微观形貌分析 | 第39-40页 |
| ·石墨烯／TiO_2复合材料光催化性能分析 | 第40-42页 |
| ·石墨烯/TiO_2复合材料(GT3)的表征 | 第42-46页 |
| 第四章 石墨烯修饰钼酸铋纳米片的制备及可见光光催化效率研究 | 第46-60页 |
| ·Bi_2MoO_6样品的表征 | 第46-52页 |
| ·XRD分析 | 第46-47页 |
| ·可见光下γ-Bi_2MoO_6降解亚甲基蓝溶液 | 第47-49页 |
| ·37. Bi_2MoO_6样品的形貌分析 | 第49-52页 |
| ·石墨烯／Bi_2MoO_6复合材料的表征 | 第52-60页 |
| ·石墨烯／Bi_2MoO_6复合材料的降解分析 | 第52-57页 |
| ·GBM2的形貌分析 | 第57-58页 |
| ·GBM的光电化学实验 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
