| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abatract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 光学薄膜应用与发展 | 第9-10页 |
| 1.2 光学薄膜常用制备方法 | 第10-11页 |
| 1.3 原子层沉积技术 | 第11-12页 |
| 1.4 原子层沉积技术原理和工艺特点 | 第12-14页 |
| 1.4.1 原子层沉积技术原理 | 第12-13页 |
| 1.4.2 原子层沉积技术工艺特点 | 第13-14页 |
| 1.5 本论文主要内容 | 第14-15页 |
| 2 原子层沉积特性和应用 | 第15-30页 |
| 2.1 原子层沉积技术特性 | 第15-21页 |
| 2.1.1 ALD前驱体 | 第15页 |
| 2.1.2 表面化学 | 第15-18页 |
| 2.1.3 反应温度 | 第18-19页 |
| 2.1.4 腔体流体力学 | 第19-21页 |
| 2.2 原子层沉积系统 | 第21-23页 |
| 2.3 原子层沉积的应用 | 第23-30页 |
| 2.3.1 特殊表面的应用 | 第23-26页 |
| 2.3.2 微结构的应用 | 第26-30页 |
| 3 ALD制备Al_2O_3和TiO_2薄膜及应用 | 第30-45页 |
| 3.1 单层薄膜的特性 | 第30-37页 |
| 3.1.1 Al_2O_3和TiO_2薄膜的制备 | 第30页 |
| 3.1.2 Al_2O_3单层膜特性 | 第30-34页 |
| 3.1.3 TiO_2单层膜特性 | 第34-37页 |
| 3.2 石英管减反膜制备 | 第37-41页 |
| 3.3 Al_2O_3用于太阳能电池的封装 | 第41-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 基于ALD制备宽波段吸收器 | 第45-61页 |
| 4.1 单层金属铱(Ir)薄膜特性 | 第45-49页 |
| 4.1.1 单层Ir薄膜光学特性 | 第45-48页 |
| 4.1.2 单层Ir薄膜吸收特性 | 第48-49页 |
| 4.2 宽波段吸收器 | 第49-58页 |
| 4.2.1 多孔氧化铝的制备 | 第50-52页 |
| 4.2.2 宽波段吸收器的设计和制备 | 第52-56页 |
| 4.2.3 宽波段吸收器实测特性 | 第56-58页 |
| 4.3 吸收机理 | 第58-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 5 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 作者简历 | 第69-70页 |
| 研究生期间科研成果 | 第70页 |