多孔SiCOH低介电常数材料薄膜的制备与性能表征
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·低介电常数材料的提出 | 第9-10页 |
| ·低介电常数材料的研究现状 | 第10-15页 |
| ·降低介电常数的途径 | 第15-17页 |
| ·低介电常数材料的性能要求 | 第17-19页 |
| ·本课题研究的工作意义 | 第19-22页 |
| 第二章 多孔SICOH薄膜的制备与表征 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·实验材料及设备 | 第23页 |
| ·实验过程 | 第23-26页 |
| ·溶胶-凝胶特点 | 第23页 |
| ·样品制备 | 第23-24页 |
| ·样品表征方法 | 第24-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·化学结构和组成分析 | 第26-29页 |
| ·电学性能 | 第29-30页 |
| ·力学性能 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 超低K-SICOH薄膜的热性能分析 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验过程 | 第34-35页 |
| ·实验主要设备仪器 | 第34页 |
| ·样品制备 | 第34-35页 |
| ·样品表征 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·薄膜的形貌及多孔结构分析 | 第35-38页 |
| ·化学组成和微结构分析 | 第38-40页 |
| ·热稳定性 | 第40-41页 |
| ·电学性能 | 第41-42页 |
| ·力学性能 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 紫外辐照处理对超低K薄膜结构与性能影响 | 第45-53页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验过程 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-52页 |
| ·P-SICOH薄膜的FTIR分析 | 第46页 |
| ·P-SICOH薄膜的XPS分析 | 第46-49页 |
| ·力学性能分析 | 第49-51页 |
| ·电学性能分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 硕士阶段完成论文与专利 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
