| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| ·透明导电氧化物研究背景 | 第13-15页 |
| ·Cu~+基p型 TCO的价带化学修饰理论 | 第15-18页 |
| ·CuAlO_2的晶体结构和能带结构 | 第18-20页 |
| ·p型 CuAlO_2薄膜的研究进展 | 第20-23页 |
| ·本论文研究思路和内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第2章 薄膜样品的制备及表征方法 | 第27-35页 |
| ·制备方法 | 第27-29页 |
| ·本文所用磁控溅射设备介绍 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第28-29页 |
| ·薄膜的结构表征和物理性能测量 | 第29-34页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第29页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第29-31页 |
| ·薄膜的形貌观察 | 第31页 |
| ·薄膜的成分与元素价态分析 | 第31-33页 |
| ·薄膜的光学性能测量 | 第33-34页 |
| ·薄膜的电学性能测量 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第3章 CuAlO_2粉末和靶材制备及陶瓷性能研究 | 第35-41页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·CuAlO_2粉末制备工艺 | 第35-37页 |
| ·CuAlO_2陶瓷烧结工艺及性能研究 | 第37-39页 |
| ·CuAlO_2陶瓷烧结工艺 | 第37页 |
| ·CuAlO_2陶瓷的致密性分析 | 第37-38页 |
| ·CuAlO_2陶瓷的电学性质 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第4章 Cu-Al-O薄膜的制备与性能研究 | 第41-63页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第41-42页 |
| ·薄膜结构分析 | 第42-43页 |
| ·Cu-Al-O薄膜成分的确定 | 第43-44页 |
| ·Cu-Al-O薄膜的XPS分析 | 第44-46页 |
| ·溅射参数对制备Cu-Al-O薄膜光电性能的影响 | 第46-59页 |
| ·衬底温度对溅射制备Cu-Al-O薄膜光电性能的影响 | 第46-52页 |
| ·Cu-Al-O薄膜光学电学特性受氧分压的影响 | 第52-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第5章 CuAlO_2薄膜退火处理与性能研究 | 第63-101页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·CuAlO_2薄膜退火处理及其性能研究 | 第64-77页 |
| ·实验步骤 | 第64-65页 |
| ·CuAlO_2薄膜退火气氛的影响 | 第65-66页 |
| ·CuAlO_2薄膜在氮气气氛中退火及其性能研究 | 第66-77页 |
| ·Ag/p-CuAlO_2薄膜的欧姆接触研究 | 第77-82页 |
| ·引言 | 第77-78页 |
| ·测试方法 | 第78-79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-82页 |
| ·退火CuAlO_2薄膜的结构特性研究 | 第82-96页 |
| ·引言 | 第82页 |
| ·样品制备 | 第82-83页 |
| ·结果与讨论 | 第83-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-101页 |
| 第6章 p-CuAlO_2/n-Si异质结与掺杂 CuAlO_2薄膜的制备与性能研究 | 第101-123页 |
| ·p-CuAlO_2/n-Si异质结的制备与特性研究 | 第101-106页 |
| ·引言 | 第101页 |
| ·实验步骤 | 第101-102页 |
| ·结果与讨论 | 第102-106页 |
| ·N掺杂 CuAlO_2薄膜的制备与性能研究 | 第106-119页 |
| ·引言 | 第106-107页 |
| ·实验步骤 | 第107-108页 |
| ·结果与讨论 | 第108-119页 |
| ·本章小结 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-123页 |
| 结论与展望 | 第123-127页 |
| 1. 结论 | 第123-125页 |
| 2. 展望 | 第125-127页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129页 |
