| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·光学薄膜的发展概述 | 第7-9页 |
| ·论文研究背景及内容 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第11-23页 |
| ·薄膜干涉原理 | 第11-14页 |
| ·电磁理论基础 | 第14-17页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第17-20页 |
| ·多层介质薄膜的反射率 | 第20-23页 |
| 第三章 材料选取 | 第23-30页 |
| ·基底材料 | 第23-25页 |
| ·膜料选取 | 第25-28页 |
| ·材料的光学特性 | 第28-30页 |
| 第四章 膜系设计 | 第30-36页 |
| ·膜系优化设计的基本原理及评价函数的构成 | 第30-33页 |
| ·增透膜系的确定 | 第33-36页 |
| 第五章 薄膜制备 | 第36-44页 |
| ·镀膜设备 | 第36-37页 |
| ·考夫曼离子源 | 第37-38页 |
| ·膜厚的测量与监控 | 第38-41页 |
| ·工艺因素 | 第41-43页 |
| ·制备过程 | 第43-44页 |
| 第六章 测试结果与分析 | 第44-47页 |
| ·膜层性能的测试 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 硕士期间发表的论文目录 | 第51页 |