磁控溅射法制备CNx薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·薄膜分类 | 第10页 |
| ·CNx薄膜理论预测 | 第10-12页 |
| ·CNx薄膜的制备方法 | 第12-19页 |
| ·高温高压法 | 第12-13页 |
| ·溅射法 | 第13-16页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第16-17页 |
| ·离子注入法 | 第17-18页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第18-19页 |
| ·沉积工艺参数对薄膜性质的影响 | 第19-22页 |
| ·溅射气压 | 第19页 |
| ·溅射功率 | 第19-20页 |
| ·衬底偏压 | 第20-21页 |
| ·N_2流量 | 第21页 |
| ·衬底温度 | 第21页 |
| ·退火处理 | 第21-22页 |
| ·CNx薄膜的测试分析方法 | 第22-24页 |
| ·CNx薄膜的研究目标和应用前景 | 第24-25页 |
| ·本课题的研究意义及主要内容 | 第25-26页 |
| 第二章 反应磁控溅射法制备CNx薄膜 | 第26-31页 |
| ·磁控溅射实验装置 | 第26-27页 |
| ·基片的准备 | 第27-28页 |
| ·基片的预处理 | 第28页 |
| ·碱处理方法 | 第28页 |
| ·超声处理 | 第28页 |
| ·CNx薄膜的沉积过程及其工艺参数 | 第28-30页 |
| ·CNx薄膜的后处理 | 第30-31页 |
| 第三章 CNx薄膜的组织结构 | 第31-48页 |
| ·CNx薄膜表面形貌观察 | 第31-33页 |
| ·CNx薄膜表面形貌SEM观察 | 第31页 |
| ·CNx薄膜表面形态AFM分析 | 第31-33页 |
| ·CNx薄膜的厚度测试 | 第33-35页 |
| ·CNx薄膜的XRD分析 | 第35-37页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第37-40页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第40-47页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析原理 | 第40-41页 |
| ·CNx薄膜的XPS全谱分析 | 第41-42页 |
| ·C1s和N1s的化学位移分析 | 第42-44页 |
| ·C1s和N1s精细能谱拟合分析 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 CNx薄膜的机械性能 | 第48-66页 |
| ·CNx薄膜的附着力 | 第48-53页 |
| ·基片偏压对CNx薄膜的附着力影响 | 第50-52页 |
| ·CNx薄膜划痕形貌 | 第52页 |
| ·中间层TiN对CNx薄膜附着力的影响 | 第52-53页 |
| ·基片腐蚀处理对CNx薄膜附着力的影响 | 第53页 |
| ·CNx薄膜的摩擦磨损性能 | 第53-64页 |
| ·CNx薄膜的摩擦系数测定 | 第55-60页 |
| ·CNx薄膜的耐磨性能研究 | 第60-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 全文总结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在读学位期间发表的论文 | 第72页 |
