| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第1章 前言 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·TiO_2薄膜的发展现状 | 第12-13页 |
| ·TiO_2薄膜光催化作用机理 | 第13-14页 |
| ·影响TiO_2薄膜光催化活性的因素 | 第14-17页 |
| ·TiO_2晶体结构的影响 | 第14-15页 |
| ·晶型 | 第14-15页 |
| ·晶格缺陷 | 第15页 |
| ·晶面 | 第15页 |
| ·粒径及比表面积的影响 | 第15-16页 |
| ·粒径的影响 | 第15-16页 |
| ·比表面积的影响 | 第16页 |
| ·表面羟基的影响 | 第16页 |
| ·外加组分的影响 | 第16页 |
| ·外场效应的影响 | 第16页 |
| ·光催化反应体系制备工艺条件的影响 | 第16-17页 |
| ·载体的影响 | 第16-17页 |
| ·负载方法 | 第17页 |
| ·其它工艺条件 | 第17页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第17-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18页 |
| ·物理气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·喷雾热分解法 | 第19页 |
| ·组装成膜 | 第19页 |
| ·提高TiO_2薄膜光催化活性的途径 | 第19-24页 |
| ·贵金属沉积 | 第20页 |
| ·离子掺杂 | 第20-22页 |
| ·金属离子掺杂 | 第20-21页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第21-22页 |
| ·半导体复合 | 第22页 |
| ·光敏化 | 第22-23页 |
| ·表面酸化及还原处理 | 第23页 |
| ·表面酸化 | 第23页 |
| ·表面还原处理 | 第23页 |
| ·辅助能量场对TiO_2光催化反应的影响 | 第23-24页 |
| ·超声波场 | 第23页 |
| ·微波场 | 第23-24页 |
| ·辅助光场 | 第24页 |
| ·电场 | 第24页 |
| ·磁场 | 第24页 |
| ·课题的提出和目的意义 | 第24-26页 |
| ·课题的提出的依据 | 第24页 |
| ·课题的目的意义 | 第24-26页 |
| 第2章 纳米La_2O_3/TiO_2薄膜的制备及光催化性能 | 第26-51页 |
| ·实验试剂、原料和仪器 | 第27-29页 |
| ·实验所用试剂 | 第27页 |
| ·实验原料及化学组成 | 第27-28页 |
| ·实验所用仪器 | 第28-29页 |
| ·试剂的配制 | 第29页 |
| ·亚甲基蓝溶液的配制 | 第29页 |
| ·2mol/L氨水溶液的配制 | 第29页 |
| ·2mol/L硫酸溶液的配制 | 第29页 |
| ·陶瓷片的制备 | 第29-30页 |
| ·纳米TiO_2复合薄膜的制备 | 第30-33页 |
| ·TiO_2溶胶的配方设计 | 第30-31页 |
| ·纳米La_2O_3/TiO_2溶胶的制备 | 第31-32页 |
| ·纳米TiO_2溶胶的制备 | 第31-32页 |
| ·纳米La_2O_3/TiO_2溶胶的制备 | 第32页 |
| ·影响TiO_2溶胶胶凝时间的因素分析 | 第32页 |
| ·Al_2O_3和SiO_2溶胶的制备 | 第32-33页 |
| ·Al_2O_3溶胶的制备 | 第32页 |
| ·SiO_2溶胶的制备 | 第32-33页 |
| ·陶瓷基片的预处理 | 第33页 |
| ·薄膜的制备 | 第33页 |
| ·纳米La_2O_3/TiO_2薄膜的表征 | 第33-34页 |
| ·综合热分析测试 | 第33页 |
| ·XRD测试 | 第33页 |
| ·SEM测试 | 第33-34页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜的光催化性能测试 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-48页 |
| ·各种因素对胶凝时间的影响 | 第34-37页 |
| ·加水量对TiO_2胶凝时间的影响 | 第34-35页 |
| ·加乙醇量对TiO_2胶凝时间的影响 | 第35-36页 |
| ·加三乙醇胺的量对TiO_2胶凝时间的影响 | 第36-37页 |
| ·La_2O_3/TiO_2凝胶的热分析 | 第37页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜晶相与表面形貌分析 | 第37-42页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜的晶相分析 | 第37-41页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜的形貌分析 | 第41-42页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜的附着力的测试 | 第42页 |
| ·底膜溶胶选择及底膜厚度对光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| ·底膜溶胶种类的选择 | 第42页 |
| ·Al_2O_3底膜厚度对光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜的光催化性能的研究 | 第43-48页 |
| ·空白陶瓷片的光催化降解率 | 第43-44页 |
| ·La_2O_3复合量对TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·La_2O_3/TiO_2薄膜厚度对其光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·煅烧温度对La_2O_3/TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| ·Al_2O_3底膜对La_2O_3/TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第47-48页 |
| ·复合La_2O_3对TiO_2薄膜耐热性及光催化性能的影响机理 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第3章 纳米SiO_2/TiO_2薄膜的制备及光催化性能 | 第51-74页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第52页 |
| ·实验所用试剂和原料 | 第52页 |
| ·实验所用仪器 | 第52页 |
| ·试剂的配制 | 第52-53页 |
| ·2mol·L~(-1)、4 mol·L~(-1)硫酸溶液的配制 | 第52页 |
| ·2mol·L~(-1)的TiCl_4-H_2SO_4溶液的配制 | 第52-53页 |
| ·2mol·L~(-1)、4mol·L~(-1)氨水溶液的配制 | 第53页 |
| ·亚甲基蓝溶液的配制 | 第53页 |
| ·纳米Al_2O_3溶胶的制备 | 第53页 |
| ·SiO_2/TiO_2溶胶的制备 | 第53-55页 |
| ·TiO_2溶胶的制备 | 第53-54页 |
| ·纳米TiO_2溶胶的制备原理 | 第53-54页 |
| ·TiO_2溶胶的制备实验装置 | 第54页 |
| ·TiO_2溶胶的制备过程 | 第54页 |
| ·TiO_2溶胶的稳定性的测定 | 第54-55页 |
| ·SiO_2/TiO_2溶胶的制备 | 第55页 |
| ·陶瓷基片的预处理 | 第55页 |
| ·TiO_2复合薄膜的制备 | 第55页 |
| ·纳米SiO_2/TiO_2薄膜的表征 | 第55页 |
| ·XRD测试 | 第55页 |
| ·SEM测试 | 第55页 |
| ·傅立叶红外吸收光测试 | 第55页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜的光催化实验 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-73页 |
| ·TiO_2溶胶稳定性试验 | 第55-56页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜晶相分析 | 第56-61页 |
| ·纳米SiO_2/TiO_2薄膜的表面形貌分析 | 第61-64页 |
| ·纳米SiO_2/TiO_2薄膜表面金相显微镜初析 | 第61-62页 |
| ·纳米SiO_2/TiO_2薄膜的SEM分析 | 第62-64页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜的光催化性能的研究 | 第64-68页 |
| ·SiO_2的复合量对SiO_2/TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第64-66页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜厚度对其光催化性能的影响 | 第66-67页 |
| ·煅烧温度对SiO_2/TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第67-68页 |
| ·Al_2O_3底膜对SiO_2/TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第68页 |
| ·TiO_2复合薄膜厚度的测试 | 第68-69页 |
| ·SiO_2/TiO_2薄膜的附着力的测试 | 第69-70页 |
| ·傅立叶红外光谱测试 | 第70-71页 |
| ·SiO_2对锐钛矿TiO_2稳定性的机理探讨 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第4章 纳米Al_2O_3-SiO_2/TiO_2薄膜的制备及光催化性能 | 第74-78页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第74页 |
| ·实验所用试剂 | 第74页 |
| ·实验所用仪器 | 第74页 |
| ·实验所需试剂的配制 | 第74页 |
| ·底膜薄膜Al_2O_3溶胶的制备 | 第74页 |
| ·Al_2O_3-SiO_2/TiO_2溶胶的制备 | 第74-75页 |
| ·SiO_2/TiO_2溶胶的制备 | 第74页 |
| ·与SiO_2/TiO_2溶胶复合Al_2O_3溶胶的制备 | 第74-75页 |
| ·Al_2O_3-SiO_2/TiO_2溶胶的制备 | 第75页 |
| ·陶瓷片的预处理 | 第75页 |
| ·TiO_2复合薄膜的制备 | 第75页 |
| ·纳米TiO_2复合薄膜的表征 | 第75页 |
| ·XRD测试 | 第75页 |
| ·TiO_2复合薄膜的光催化实验 | 第75页 |
| ·结果与讨论 | 第75-77页 |
| ·Al_2O_3-SiO_2/TiO_2样品的晶相分析 | 第75-76页 |
| ·煅烧温度对TiO_2复合薄膜的光催化性能的影响 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 论文工作总结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第86-87页 |
