| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 论文综述 | 第12-19页 |
| 1 引言 | 第12页 |
| 2 电离辐射诱发的基因组不稳定性 | 第12-16页 |
| ·诱发的基因组不稳定性:辐射照射的滞后效应 | 第13页 |
| ·诱发的基因组不稳定性:辐射照射的滞后应答 | 第13-16页 |
| 3 电离辐射诱发的基因组不稳定性的发生机制 | 第16-17页 |
| 4 电离辐射诱发的基因组不稳定性与辐射致癌 | 第17-18页 |
| 5 本实验的研究目的和意义 | 第18-19页 |
| 第二章 ~(60)Co-γ射线诱发7702细胞直接损伤效应的检测 | 第19-24页 |
| 1 材料和方法 | 第19-20页 |
| ·实验材料 | 第19页 |
| ·实验方法 | 第19-20页 |
| 2 结果与分析 | 第20-23页 |
| ·首次照射后7702细胞克隆存活率结果 | 第20页 |
| ·首次照射后7702细胞SCGE结果 | 第20-22页 |
| ·首次照射后7702细胞微核发生率结果 | 第22-23页 |
| 3 讨论 | 第23-24页 |
| 第三章 ~(60)C0-γ射线诱发7702细胞滞后效应的检测 | 第24-33页 |
| 1 材料和方法 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| 2 结果与分析 | 第25-30页 |
| ·传40代后子代细胞的克隆存活率结果 | 第25页 |
| ·传40代后子代细胞的SCGE结果 | 第25-26页 |
| ·传40代后子代细胞的微核发生率结果 | 第26-27页 |
| ·二次照射后子代细胞的克隆存活率结果 | 第27-28页 |
| ·二次照射后子代细胞的SCGE结果 | 第28-29页 |
| ·二次照射后子代细胞的微核发生率结果 | 第29-30页 |
| 3 讨论 | 第30-33页 |
| 第四章 ~(60)Co-γ射线诱发7702细胞滞后效应的基因芯片检测 | 第33-42页 |
| 1 材料和方法 | 第33-35页 |
| ·实验材料 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-35页 |
| 2 结果与分析 | 第35-40页 |
| ·基因芯片检测结果 | 第35-39页 |
| ·RT-PCR检测结果 | 第39-40页 |
| 3 讨论 | 第40-42页 |
| 第五章 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-50页 |
| 图版 | 第50-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 | 第58-59页 |
