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ZnO薄膜和Al掺杂ZnO(ZAO)薄膜的射频磁控溅射制备及其性能研究

第一章 概述第1-26页
   ·引言第14-15页
   ·ZnO材料的基本性质第15-17页
     ·ZnO的晶体结构第15页
     ·ZnO的电学性质第15-16页
     ·ZnO的光学性质第16-17页
   ·ZnO薄膜的生长技术第17-20页
     ·溅射(Sputtering)法第17-19页
       ·溅射机理第18-19页
       ·溅射过程第19页
     ·脉冲激光沉积(PLD)法第19页
     ·分子束外延(MBE)法第19页
     ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法第19页
     ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法第19-20页
     ·喷雾热分解(Spray Pyrolysis)法第20页
   ·ZnO薄膜的应用第20-21页
     ·透明导电薄膜第20页
     ·GaN的缓冲层第20-21页
   ·研究现状第21-23页
     ·ZnO的P型掺杂和PN结的制作第21-22页
     ·Al掺杂ZnO(ZAO)的透明导电薄膜第22页
     ·利用ZnO制作紫外半导体激光器第22-23页
     ·高质量ZnO薄膜的生长和现有器件的改进第23页
   ·课题研究的意义和内容第23-24页
   ·研究工作主要内容和技术路线第24-26页
     ·研究工作主要内容第24-25页
     ·研究工作技术路线第25-26页
第二章 试样的制备及性能测试方法第26-33页
   ·射频磁控溅射原理第26-27页
   ·薄膜样品的制备第27-29页
     ·射频磁控溅射系统第27-28页
     ·实验原料第28-29页
     ·薄膜样品的溅射制备过程第29页
   ·薄膜样品的热处理第29-30页
   ·薄膜样品的表征第30-31页
     ·厚度测量第30-31页
     ·X射线衍射仪(XRD)第31页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第31页
     ·X射线光电子能谱仪(XPS)第31页
   ·薄膜样品的性能测量第31-32页
     ·薄膜光学性能测量第31-32页
     ·薄膜电学性能测量第32页
   ·实验主要仪器设备第32-33页
第三章 ZnO薄膜的制备及后处理影响第33-51页
   ·制备工艺对ZnO薄膜性能的影响第33-41页
     ·溅射功率的影响第33-36页
       ·对薄膜结晶性能的影响第33-35页
       ·对薄膜透光性能的影响第35-36页
     ·溅射氧分压的影响第36-38页
       ·对薄膜结晶性能的影响第36-37页
       ·对薄膜透光性能的影响第37-38页
     ·衬底温度的影响第38-40页
       ·对薄膜结晶性能的影响第38-39页
       ·对薄膜透光性能的影响第39-40页
     ·衬底类型对ZnO薄膜结晶性能的影响第40-41页
   ·退火处理的影响第41-51页
     ·退火温度的影响第41-47页
       ·衬底未预热时,对不同溅射功率下制备的薄膜性能影响第41-45页
       ·衬底预热时,对不同溅射功率下制备的薄膜性能影响第45-47页
     ·退火气氛的影响第47-49页
       ·对薄膜结晶性能的影响第47-48页
       ·对薄膜透光性能的影响第48-49页
     ·退火处理对发光性能的影响第49-51页
第四章 Al掺杂ZnO(ZAO)薄膜的制备及后处理对薄膜性能影响第51-63页
   ·引言第51-52页
   ·Al掺杂ZnO薄膜(ZAO)的性能第52-55页
     ·Al掺杂ZnO薄膜(ZAO)的晶体性能第52-53页
     ·Al掺杂ZnO薄膜(ZAO)的透光性能第53-54页
     ·Al掺杂ZnO薄膜(ZAO)的导电性能第54-55页
   ·退火处理对ZAO薄膜性能的影响第55-63页
     ·退火处理对ZAO薄膜晶体性能的影响第55-61页
       ·XRD分析第55-58页
       ·SEM分析第58-59页
       ·XPS分析第59-61页
     ·退火处理对ZAO薄膜透光性能的影响第61页
     ·退火处理对ZAO薄膜导电性能的影响第61-63页
第五章 全文结论第63-64页
参考文献第64-70页
攻读硕士期间发表论文第70页

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