| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·热光可调谐法布里-珀罗薄膜滤波器 | 第10-13页 |
| ·研究意义 | 第10页 |
| ·热光可调谐薄膜滤波器的结构和工作原理 | 第10-11页 |
| ·热光可调谐法布里-珀罗薄膜滤波器的研究进展 | 第11-13页 |
| ·非晶硅薄膜研究意义 | 第13-17页 |
| ·非晶硅薄膜的物理特性 | 第13-14页 |
| ·非晶硅的光学性质研究进展 | 第14-17页 |
| ·非晶硅工艺 | 第17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 法布里-珀罗薄膜滤波器设计与分析 | 第19-35页 |
| ·法布里-珀罗薄膜滤波器的原理 | 第19-26页 |
| ·法布里-珀罗滤波器 | 第19-21页 |
| ·介质型F-P 滤波器 | 第21-26页 |
| ·法布里-珀罗薄膜滤波器的设计 | 第26-33页 |
| ·滤波器的腔层折射率选择 | 第26-30页 |
| ·滤波器材料选择 | 第30页 |
| ·滤波器周期数选择 | 第30-31页 |
| ·滤波器光学厚度的选择 | 第31-33页 |
| ·光学参数对薄膜滤波器透射曲线的影响 | 第33-35页 |
| ·折射率对薄膜滤波器透射曲线的影响 | 第33-34页 |
| ·热光系数对薄膜滤波器透射曲线的影响 | 第34-35页 |
| 第三章 PECVD 制备氢化非晶硅薄膜 | 第35-45页 |
| ·PECVD 的概述 | 第35-38页 |
| ·PECVD 设备 | 第35-36页 |
| ·PECVD 工作原理 | 第36-38页 |
| ·反应机理 | 第38-41页 |
| ·影响薄膜的实验参数 | 第41-42页 |
| ·射频功率 | 第41-42页 |
| ·沉积室气压 | 第42页 |
| ·衬底温度 | 第42页 |
| ·气体流速 | 第42页 |
| ·实验过程 | 第42-45页 |
| ·基片的选取与清洗 | 第42-43页 |
| ·非晶硅薄膜实验过程及实验参数 | 第43-45页 |
| 第四章 非晶硅折射率与工艺参数关系的理论研究和分析 | 第45-56页 |
| ·非晶硅的等效折射率模型 | 第45-51页 |
| ·折射率的物理概念 | 第45页 |
| ·介质折射率模型 | 第45-49页 |
| ·非晶硅等效折射率 | 第49-51页 |
| ·非晶硅折射率与工艺的关系式 | 第51-56页 |
| ·非晶硅成份的极化率 | 第51-52页 |
| ·非晶硅成份与工艺关系 | 第52-56页 |
| 第五章 非晶硅薄膜热光系数理论与实验研究 | 第56-71页 |
| ·热光系数模型 | 第56-64页 |
| ·F-B 非晶模型 | 第56-57页 |
| ·F-B 模型中系数的确定 | 第57-58页 |
| ·利用椭圆偏振仪确定系数 | 第58-62页 |
| ·热光系数模型 | 第62-64页 |
| ·实验参数对热光系数的影响 | 第64-71页 |
| ·材料参数的分析 | 第64-65页 |
| ·定热光系数材料参数及验证 | 第65-67页 |
| ·实验参数对热光系数的影响 | 第67-71页 |
| 第六章 总结 | 第71-73页 |
| ·本文完成的工作 | 第71页 |
| ·本文展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第77-78页 |