| 第一章 前言 | 第1-42页 |
| ·引言 | 第9-13页 |
| ·ZnO材料的紫外受激发射研究 | 第13-20页 |
| ·ZnO材料的基本性质 | 第20-23页 |
| ·ZnO薄膜的特性 | 第23-25页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第25-28页 |
| ·ZnO薄膜的生长方法 | 第28-32页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第32-34页 |
| 本章参考文献 | 第34-42页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备方法及表征方法的简单介绍 | 第42-59页 |
| ·ZnO薄膜的MOCVD反应体系的制备方法简介 | 第42-48页 |
| ·ZnO薄膜MOCVD的源材料 | 第43-44页 |
| ·ZnO薄膜的MOCVD反应体系 | 第44-48页 |
| ·ZnO薄膜的化学气相传输制备方法简介 | 第48-49页 |
| ·化学气相传输反应的装置 | 第48页 |
| ·ZnO薄膜的化学气相传输的催化剂的变化 | 第48-49页 |
| ·表征手段的简单介绍 | 第49-57页 |
| ·X射线衍射谱 | 第49-51页 |
| ·电子显微镜 | 第51-52页 |
| ·扫描探针显微镜(SPM) | 第52页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第52-54页 |
| ·透射和吸收光谱 | 第54-55页 |
| ·微区光致发光谱 | 第55-57页 |
| 本章参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 MOCVD体系中蓝宝石衬底的薄膜结构及光学性质 | 第59-106页 |
| ·ZnO薄膜在蓝宝石Al_2O_3(0006)衬底上生长 | 第59-60页 |
| ·样品的制备 | 第59-60页 |
| ·不同衬底温度的ZnO膜的结构和光学性质 | 第60-80页 |
| ·X射线结果分析温度对结构的影响 | 第61-74页 |
| ·温度对表面形貌的影响 | 第74-77页 |
| ·温度对光学性质的影响 | 第77-80页 |
| ·不同厚度的ZnO膜的结构和光学性质 | 第80-91页 |
| ·不同厚度的ZnO膜的样品的制备 | 第81页 |
| ·不同厚度的ZnO膜的样品的结果分析 | 第81-91页 |
| ·XRD分析结果 | 第81-84页 |
| ·SEM分析结果 | 第84-87页 |
| ·X射线光电子能谱对不同厚度的ZnO膜的分析 | 第87-89页 |
| ·不同厚度的ZnO膜的光致发光光谱 | 第89-91页 |
| ·ZnO膜的二维层和三维层的结构和性质 | 第91-99页 |
| ·样品的制备 | 第92页 |
| ·XRD结果分析 | 第92-95页 |
| ·原子力显微镜对形貌的表征 | 第95-97页 |
| ·二维层和三维层的光致发光 | 第97-99页 |
| ·透射光谱 | 第99页 |
| ·本章小结 | 第99-101页 |
| 本章参考文献 | 第101-106页 |
| 第四章 化学气相传输反应制备的ZnO薄膜结构和光学性质 | 第106-123页 |
| ·单晶Si(100)上Au催化的ZnO膜的结构性质 | 第106-114页 |
| ·样品的制备 | 第106-107页 |
| ·Au膜的厚度对ZnO结构形貌的影响 | 第107-111页 |
| ·XRD分析结果 | 第107-108页 |
| ·SEM结果 | 第108-110页 |
| ·光致发光谱 | 第110-111页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的结构形貌的影响 | 第111-114页 |
| ·样品的制备 | 第111页 |
| ·实验结果分析 | 第111-114页 |
| ·XRD结果 | 第111页 |
| ·SEM结果 | 第111-113页 |
| ·光致发光谱 | 第113-114页 |
| ·其他条件下的ZnO薄膜的结构性质 | 第114-119页 |
| ·样品的制备 | 第114页 |
| ·样品的表征 | 第114-119页 |
| ·SEM结果 | 第114-116页 |
| ·XRD结果分析 | 第116-117页 |
| ·AFM结果 | 第117-119页 |
| ·光致发光(PL)谱 | 第119页 |
| ·本章小结 | 第119-121页 |
| 本章参考文献 | 第121-123页 |
| 结论 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125-127页 |
| 作者简介 | 第127页 |
| 博士学位期间发表的论文 | 第127-129页 |
| 摘要 | 第129-131页 |
| ABSTRACT | 第131-133页 |
