| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-23页 |
| ·气相沉积技术简介 | 第8-9页 |
| ·PVD 法 | 第8页 |
| ·CVD 法 | 第8-9页 |
| ·离子镀沉积技术 | 第9-10页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第10-13页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第11页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第12-13页 |
| ·电弧离子镀技术的发展 | 第13页 |
| ·金属高温氧化及保护 | 第13-17页 |
| ·纯金属的氧化 | 第14-15页 |
| ·合金的氧化及防护 | 第15-17页 |
| ·TiN 基薄膜的研究进展 | 第17-19页 |
| ·TiN 基薄膜多层化发展 | 第17-18页 |
| ·TiN 基薄膜的双重处理 | 第18页 |
| ·TiN 基薄膜多元化发展 | 第18-19页 |
| ·TiAlN 膜层特点及国内外研究现状 | 第19-21页 |
| ·TiAlN 膜层特点 | 第19页 |
| ·TiAlN 国内外研究现状 | 第19-21页 |
| ·本研究的内容及意义 | 第21页 |
| ·本研究的内容 | 第21页 |
| ·本研究的关键问题 | 第21页 |
| ·本研究执行的技术路线 | 第21-23页 |
| 第二章 试验设备及方法 | 第23-30页 |
| ·试验材料 | 第23-24页 |
| ·基体材料 | 第23页 |
| ·涂层材料 | 第23-24页 |
| ·镀膜设备 | 第24页 |
| ·试验前基体试样的预处理 | 第24-25页 |
| ·试验步骤 | 第25-26页 |
| ·辉光清洗 | 第25页 |
| ·弧光清洗 | 第25-26页 |
| ·镀TiAlN 膜 | 第26页 |
| ·性能检测 | 第26-30页 |
| ·结合力的测定 | 第26-27页 |
| ·硬度的测定 | 第27-28页 |
| ·耐磨性的检测 | 第28页 |
| ·表面形貌、显微结构的观测及薄膜的物相分析 | 第28页 |
| ·膜层的抗氧化性能试验 | 第28-30页 |
| 第三章 多弧离子镀TiAlN 薄膜沉积工艺研究 | 第30-44页 |
| ·涂层制备工艺参数分析 | 第30-40页 |
| ·正交试验结果及分析 | 第30-33页 |
| ·N_2 分压对TiAlN 薄膜性能的影响 | 第33-36页 |
| ·负偏压对TiAlN 薄膜性能的影响 | 第36-38页 |
| ·沉积时间对TiAlN 薄膜性能的影响 | 第38-40页 |
| ·最佳工艺下制备TiAlN 薄膜的形貌观察及物相分析 | 第40-44页 |
| 第四章 Al 含量对Ti_(1-x)Al_xN 薄膜结构及性能的影响 | 第44-60页 |
| ·制备工艺 | 第44页 |
| ·多弧离子镀薄膜试验结果 | 第44-60页 |
| ·薄膜成分 | 第44-45页 |
| ·薄膜的表面和截面形貌 | 第45-46页 |
| ·薄膜的组织结构 | 第46-48页 |
| ·薄膜的力学性能 | 第48-50页 |
| ·TiAlN 薄膜的耐腐蚀性能 | 第50-52页 |
| ·TiAlN 薄膜的抗氧化性能 | 第52-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65页 |