| 第一章 绪论 | 第1-18页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·铝、镁其合金传统的表面处理技术 | 第8-12页 |
| ·阳极氧化技术 | 第8-9页 |
| ·化学氧化 | 第9页 |
| ·粉末静电喷涂 | 第9-10页 |
| ·电泳涂漆 | 第10页 |
| ·激光表面处理 | 第10-11页 |
| ·电镀硬铬 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化表面处理技术 | 第12-16页 |
| ·微弧氧化技术的产生与发展 | 第12-14页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的应用 | 第15-16页 |
| ·研究目的和内容 | 第16-18页 |
| ·研究目的 | 第16页 |
| ·研究内容及手段 | 第16-18页 |
| 第二章 微弧氧化原理 | 第18-23页 |
| ·微弧氧化现象 | 第18页 |
| ·微弧氧化机理 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化陶瓷层生长条件 | 第20-22页 |
| ·电参数的设置 | 第20页 |
| ·溶液配方及浓度的选择 | 第20页 |
| ·绝缘膜的形成 | 第20-21页 |
| ·热量的移散 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化陶瓷层生长规律 | 第22-23页 |
| 第三章 铝、镁合金微弧氧化处理 | 第23-32页 |
| ·微弧氧化处理装备与工艺 | 第23-25页 |
| ·试样制备 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化装备 | 第24-25页 |
| ·微弧氧化表面处理工艺 | 第25页 |
| ·微弧氧化溶液体系 | 第25-26页 |
| ·微弧氧化电参数 | 第26-32页 |
| ·不同电参数条件下镁合金陶瓷层生长规律 | 第26-29页 |
| ·不同电参数条件下铝合金陶瓷层生长规律 | 第29-32页 |
| 第四章 微弧氧化陶瓷层性能分析 | 第32-53页 |
| ·陶瓷层显微硬度分析 | 第32页 |
| ·陶瓷层微观形貌分析 | 第32-35页 |
| ·陶瓷层表面微观形貌分析 | 第32-34页 |
| ·陶瓷层截面形貌分析 | 第34-35页 |
| ·陶瓷层耐蚀性电化学分析 | 第35-48页 |
| ·交流阻抗测量 | 第35-42页 |
| ·稳态电流/电位测量(Steady State I/E Recording) | 第42-48页 |
| ·陶瓷层成分 X-射线衍射分析 | 第48-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 第六章 问题与展望 | 第54-56页 |
| ·有待进一步探讨的问题 | 第54页 |
| ·本课题的前景展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59页 |