| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 CVD金刚石结构性能及应用 | 第12-15页 |
| 1.1.1 金刚石结构 | 第12-13页 |
| 1.1.2 金刚石的性能及应用 | 第13-15页 |
| 1.2 CVD金刚石技术简介 | 第15-19页 |
| 1.2.1 CVD金刚石膜沉积机理 | 第16-18页 |
| 1.2.2 CVD金刚石膜技术分类 | 第18-19页 |
| 1.3 MPCVD设备 | 第19-25页 |
| 1.3.1 石英管式MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第19-20页 |
| 1.3.2 石英钟罩式MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第20-22页 |
| 1.3.3 圆柱谐振腔式MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第22-23页 |
| 1.3.4 环形天线式MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第23-24页 |
| 1.3.5 椭球谐振腔式MPCVD金刚石膜沉积装置 | 第24-25页 |
| 1.4 MPCVD法生长单晶金刚石的国内外发展历程 | 第25-26页 |
| 1.5 宝石级金刚石分类 | 第26-27页 |
| 1.6 本文的主要研究的内容及意义 | 第27-30页 |
| 第2章 实验方法及表征手段 | 第30-38页 |
| 2.1 实验装置 | 第30-34页 |
| 2.1.1 微波系统 | 第30-32页 |
| 2.1.2 气路系统 | 第32-33页 |
| 2.1.3 真空系统 | 第33-34页 |
| 2.1.4 保护系统 | 第34页 |
| 2.2 表征方法 | 第34-38页 |
| 2.2.1 光学显微镜 | 第35页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第35页 |
| 2.2.3 激光拉曼光谱 | 第35页 |
| 2.2.4 X射线衍射 | 第35-36页 |
| 2.2.5 光致发光光谱 | 第36-38页 |
| 第3章 宝石级单晶金刚石制备的研究 | 第38-52页 |
| 3.1 籽晶的选择及预处理 | 第38-39页 |
| 3.2 单晶金刚石的生长 | 第39页 |
| 3.3 沉积温度对单晶金刚石的影响 | 第39-44页 |
| 3.3.1 温度对单晶金刚石整体形貌的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.2 温度对单晶金刚石沉积速率的影响 | 第42-44页 |
| 3.4 气源对单晶金刚石沉积质量影响的研究 | 第44-49页 |
| 3.4.1 碳源浓度不同对单晶金刚石的影响 | 第44-47页 |
| 3.4.2 含氮量不同对单晶金刚石的影响 | 第47-49页 |
| 3.5 高温退火对单晶金刚石的影响 | 第49-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第4章 单晶金刚石批量化生长的研究 | 第52-64页 |
| 4.1 批量单晶金刚石沉积环境的特征 | 第52-53页 |
| 4.2 微波电磁场的研究 | 第53-55页 |
| 4.3 微波等离子体模拟的研究 | 第55-56页 |
| 4.4 单晶金刚石的批量化生长 | 第56-60页 |
| 4.4.1 批量化沉积单晶金刚石的工艺流程 | 第56-58页 |
| 4.4.2 结果及分析 | 第58-60页 |
| 4.5 批量化生长的问题及解决方案 | 第60-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 附录 攻读硕士期间已发表的论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
