离心式CD微流控芯片体系电致化学发光免疫分析的基础研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章：文献综述 | 第9-35页 |
| ·离心式CD微流控芯片研究进展 | 第9-15页 |
| ·离心式CD微流控芯片原理 | 第9-11页 |
| ·离心式CD芯片特点 | 第11页 |
| ·离心式CD芯片研究进展 | 第11-14页 |
| ·展望 | 第14-15页 |
| ·PMMA材质芯片制作和应用 | 第15-25页 |
| ·PMMA芯片基片的加工方法 | 第15-20页 |
| ·阳模的加工 | 第15-17页 |
| ·雕(蚀)刻法 | 第17-18页 |
| ·热压复制成型法 | 第18-19页 |
| ·模塑复制成型法 | 第19-20页 |
| ·PMMA芯片的封合方法 | 第20-22页 |
| ·热封合 | 第20-21页 |
| ·胶脂黏结封合 | 第21-22页 |
| ·PMMA芯片的表面改性修饰 | 第22-25页 |
| ·动态涂层表面改性技术 | 第23页 |
| ·永久表面改性技术 | 第23-25页 |
| ·化学发光免疫分析的研究进展 | 第25-31页 |
| ·化学发光免疫分析的分类 | 第25-26页 |
| ·按发展阶段分类 | 第25页 |
| ·根据发光物质的性质和在免疫测定中的作用分类 | 第25-26页 |
| ·CLEA基本理论和概念 | 第26-29页 |
| ·CLIA的基本原理 | 第26-27页 |
| ·化学发光物质 | 第27-28页 |
| ·发光标记法 | 第28-29页 |
| ·化学发光酶免疫测定的增强剂 | 第29页 |
| ·化学发光免疫分析的研究进展 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-35页 |
| 第二章 PMMA离心式CD芯片制作研究 | 第35-45页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-39页 |
| ·仪器与试剂 | 第36页 |
| ·PMMA基片的制作 | 第36-38页 |
| ·热压法 | 第36-37页 |
| ·电热压法 | 第37-38页 |
| ·数控机床雕刻(CNC雕刻) | 第38页 |
| ·PMMA芯片封合 | 第38-39页 |
| ·热压封合 | 第38-39页 |
| ·沸水浴封合 | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·基片制作条件优化 | 第39-40页 |
| ·热压法条件优化 | 第39-40页 |
| ·电热压法条件优化 | 第40页 |
| ·基片微通道表征分析 | 第40-42页 |
| ·微通道截面形状 | 第40-41页 |
| ·微通道的深宽比 | 第41-42页 |
| ·封合条件的优化 | 第42-43页 |
| ·热压法条件优化 | 第42页 |
| ·沸水浴法条件优化 | 第42-43页 |
| ·离心式CD芯片的制作 | 第43页 |
| ·结论 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第三章 芯片上HBsAg的化学发光免疫分析研究 | 第45-55页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-50页 |
| ·实验器材 | 第46-47页 |
| ·实验试剂 | 第47页 |
| ·芯片制作和仪器搭建 | 第47-48页 |
| ·实验方法 | 第48-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-54页 |
| ·实验条件的优化 | 第50页 |
| ·芯片的优化设计 | 第50-51页 |
| ·芯片性能考察测试 | 第51-52页 |
| ·孕育时间考察 | 第52页 |
| ·样品分析 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 芯片上鲁米诺体系电化学发光行为的研究 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验部分 | 第56-61页 |
| ·仪器与试剂 | 第56页 |
| ·实验装置的搭建 | 第56-57页 |
| ·电化学发光芯片的设计 | 第57-59页 |
| ·芯片通道构型的设计 | 第57-58页 |
| ·微电解池的设计 | 第58-59页 |
| ·实验方法 | 第59-61页 |
| ·工作芯片制作 | 第59-60页 |
| ·试剂制备及引入 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-65页 |
| ·电学参数与鲁米诺发光强度 | 第61页 |
| ·电极电位影响 | 第61页 |
| ·光电倍增管工作电压 | 第61页 |
| ·电解质KCl的影响 | 第61-62页 |
| ·工作电极表面积影响 | 第62页 |
| ·溶液酸碱性(pH)影响 | 第62-64页 |
| ·氧气的影响 | 第64页 |
| ·系统的分析性能 | 第64-65页 |
| ·鲁米诺浓度与发光强度的关系 | 第64-65页 |
| ·芯片体系的重现性 | 第65页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 独创性声明 | 第68页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第68页 |
