| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·硬质薄膜的分类 | 第9-11页 |
| ·按合成元素分类 | 第9-10页 |
| ·按薄膜结构分类 | 第10-11页 |
| ·按薄膜硬度分类 | 第11页 |
| ·硬质薄膜材料的研究进展 | 第11-17页 |
| ·单结构硬质薄膜 | 第11-13页 |
| ·硬质多层薄膜 | 第13页 |
| ·多元化硬质薄膜 | 第13-14页 |
| ·纳米多层超晶格薄膜 | 第14-16页 |
| ·纳米复合超硬薄膜 | 第16-17页 |
| ·薄膜制备技术 | 第17-20页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第18-19页 |
| ·物理化学气相沉积(PCVD) | 第19-20页 |
| ·CNx薄膜材料 | 第20-23页 |
| ·本课题研究目的与意义 | 第23-24页 |
| ·本课题研究的内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-37页 |
| ·实验方案选择 | 第26-30页 |
| ·薄膜制备方法的选取 | 第26页 |
| ·薄膜制备材料的选取 | 第26页 |
| ·基体材料的选取 | 第26-27页 |
| ·实验方案的设计 | 第27-28页 |
| ·实验参数的选取 | 第28-30页 |
| ·薄膜制备工艺流程 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-33页 |
| ·Bulat-6多弧离子镀膜机的组成 | 第30-32页 |
| ·Bulat-6多弧离子镀膜机的技术特性 | 第32-33页 |
| ·离子束在等离子镀膜中的作用 | 第33-35页 |
| ·离子束对基片表面轰击的效应 | 第34页 |
| ·离子束轰击对基片和镀层界面的效应 | 第34页 |
| ·离子束轰击在薄膜生长中的效应 | 第34-35页 |
| ·薄膜的测试与分析 | 第35-37页 |
| ·薄膜的结构成分分析 | 第35页 |
| ·薄膜表面及断面形貌分析 | 第35页 |
| ·薄膜硬度的测试 | 第35-36页 |
| ·薄膜摩擦磨损性能的测定 | 第36-37页 |
| 第三章 钛／石墨复合靶制备TIN／CNX薄膜及分析 | 第37-67页 |
| ·真空电弧沉积CNx薄膜 | 第37-38页 |
| ·CNx薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
| ·CNx薄膜的X射线衍射 | 第38页 |
| ·复合靶材的选用 | 第38-39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-65页 |
| ·弧流对复合靶中石墨蒸发率的影响 | 第39-40页 |
| ·离子束加速电压对TiN／CNx薄膜的影响 | 第40-49页 |
| ·离子束流对TiN／CNx薄膜的影响 | 第49-56页 |
| ·氮气压力对TiN／CNx薄膜的影响 | 第56-62页 |
| ·靶材对薄膜的影响 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 钛／甲烷／氮气／制备TIN／CNX薄膜及分析 | 第67-91页 |
| ·甲烷／氮气制备CNx薄膜 | 第67-68页 |
| ·钛／甲烷／氮气制备TIN／CNx薄膜 | 第68-69页 |
| ·实验结果与讨论 | 第69-89页 |
| ·甲烷：氮气=1：4时，进气方式对TiN／CNx薄膜的影响 | 第69-77页 |
| ·甲烷：氮气=1：8时，进气方式对TiN／CNx薄膜的影响 | 第77-83页 |
| ·氮气通过离子源，甲烷与氮气比例对TiN／CNx薄膜的影响 | 第83-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 全文总结 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第98-99页 |
| 独创性声明 | 第99-100页 |
| 致谢 | 第100页 |
