第一章 文献综述 | 第1-24页 |
1.1 PLZT的结构与电学性能 | 第8-10页 |
1.2 PLZT的光学和电光性能 | 第10-11页 |
1.3 PLZT铁电薄膜的应用前景 | 第11-13页 |
1.4 PLZT的Sol-gel制备工艺 | 第13-19页 |
1.4.1 Sol-gel法的原理 | 第14页 |
1.4.2 金属盐和溶剂的选取 | 第14-15页 |
1.4.3 添加剂的选取 | 第15-16页 |
1.4.4 Pb过量 | 第16-17页 |
1.4.5 衬底、电极、过渡层的选取和设计 | 第17-19页 |
1.5 PLZT薄膜的退火处理 | 第19-20页 |
1.6 PLZT薄膜的微细加工 | 第20-22页 |
1.7 结论 | 第22-24页 |
第二章 实验方法 | 第24-30页 |
2.1 研究思路 | 第24-25页 |
2.2 实验设备及实验方法 | 第25-30页 |
第三章 PLZT稳定溶胶的配制 | 第30-43页 |
3.1 绪言 | 第30-31页 |
3.2 实验方法 | 第31-33页 |
3.2.1 实验过程 | 第31-32页 |
3.2.2 试剂的选择 | 第32-33页 |
3.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
3.3.1 采用不同锆盐配制的PLZT溶胶 | 第33-39页 |
3.3.2 醋酸和乙醇铵的配比对溶胶配制的影响 | 第39-40页 |
3.3.3 不同溶剂配制PLZT溶胶 | 第40-41页 |
3.4 结论 | 第41-43页 |
第四章 PLZT薄膜的晶化处理 | 第43-53页 |
4.1 绪言 | 第43页 |
4.2 实验过程 | 第43-45页 |
4.2.1 PLZT试样的制备 | 第43页 |
4.2.2 TEM试样的制备 | 第43-45页 |
4.3 结果与讨论 | 第45-52页 |
4.3.1 不同热处理温度对PLZT薄膜晶相转变的影响 | 第45-48页 |
4.3.2 不同热处理时间对PLZT薄膜晶相转变的影响 | 第48-52页 |
4.4 结论 | 第52-53页 |
第五章 PLZT薄膜的铁电介电与光学性能研究 | 第53-74页 |
5.1 绪言 | 第53页 |
5.2 实验方法 | 第53-55页 |
5.3 结果与讨论 | 第55-72页 |
5.3.1 不同溶剂对PLZT薄膜性能的影响 | 第55-58页 |
5.3.2 不同锆盐对PLZT薄膜性能的影响 | 第58-60页 |
5.3.3 膜厚对PLZT薄膜性能的影响 | 第60-62页 |
5.3.4 PbTiO_3过渡层对薄膜性能的影响 | 第62-66页 |
5.3.5 不同La含量对PLZT薄膜性能的影响 | 第66-67页 |
5.3.6 不同Zr/Ti比对PLZT薄膜性能的影响 | 第67-69页 |
5.3.7 PLZT薄膜疲劳性能的研究 | 第69-70页 |
5.3.8 PLZT薄膜透光度的研究 | 第70-72页 |
5.4 结论 | 第72-74页 |
第六章 PLZT薄膜的微细加工工艺 | 第74-79页 |
6.1 绪言 | 第74页 |
6.2 试验方法 | 第74-75页 |
6.3 结果与讨论 | 第75-78页 |
6.3.1 PLZT/AeAc凝胶薄膜的感光性 | 第75-77页 |
6.3.2 PLZT/AcAc薄膜的微细图形加工 | 第77-78页 |
6.4 结论 | 第78-79页 |
第七章 结论 | 第79-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
作者在硕士期间撰写和发表的论文 | 第86页 |