中文摘要 | 第1-7页 |
引言 | 第7-10页 |
第一部分 灰霉菌的多重抗药性研究 | 第10-44页 |
1 材料与方法 | 第10-16页 |
1.1 供试药剂、试剂和主要仪器 | 第10-11页 |
1.2 标本的采集 | 第11页 |
1.3 培养基及含药培养基的制备 | 第11-12页 |
1.4 灰霉病菌抗性频率的测定 | 第12页 |
1.5 灰霉病菌抗性水平的测定 | 第12页 |
1.6 多重抗性菌株连续转代培养对多菌灵、速克灵和乙霉威抗性的影响 | 第12页 |
1.7 乙霉威抗性菌株的培育 | 第12-13页 |
1.8 杀菌剂的交互抗性测定 | 第13页 |
1.9 不同类型菌株的离体适合度测定 | 第13页 |
1.10 多重抗性菌株致病力测定 | 第13页 |
1.11 抗性机理初探 | 第13-16页 |
2. 结果与分析 | 第16-39页 |
2.1 抗性菌株的发生频率 | 第16页 |
2.2 抗性菌株的抗性水平 | 第16-18页 |
2.3 抗性稳定性 | 第18-19页 |
2.4 乙霉威抗性菌株培育结果 | 第19-20页 |
2.5 交互抗性测定结果 | 第20-23页 |
2.6 不同类型菌株的离体适合度测定 | 第23-27页 |
2.7 多菌灵、腐霉利、乙霉威抗性机理初探 | 第27-39页 |
3. 讨论 | 第39-43页 |
4. 结论 | 第43-44页 |
第二部分 木霉对杀菌剂的抗药性研究 | 第44-51页 |
1. 材料与方法 | 第44-45页 |
1.1 供试菌株 | 第44页 |
1.2 培养基 | 第44页 |
1.3 供试药剂及试剂 | 第44页 |
1.4 含药培养基的制备 | 第44页 |
1.5 敏感性测定 | 第44页 |
1.6 抗性菌株的紫外光诱导 | 第44页 |
1.7 抗性遗传稳定性 | 第44-45页 |
1.8 抗性突变体产孢能力及生长速率的测定 | 第45页 |
1.9 抗性突变体与灰霉病菌的对峙培养 | 第45页 |
1.10 抗性突变体对灰霉病菌的活体拮抗测定 | 第45页 |
1.11 木霉菌次生代谢物的活性测定 | 第45页 |
2. 结果与分析 | 第45-49页 |
2.1 杀菌剂对四种木霉菌的毒力测定 | 第45-46页 |
2.2 紫外光诱导抗性菌株 | 第46-47页 |
2.3 抗性菌株的抗性水平及交互抗性 | 第47页 |
2.4 抗性菌株的抗性遗传稳定性 | 第47-48页 |
2.5 抗性菌株生长速率和产孢能力 | 第48页 |
2.6 对峙培养结果 | 第48页 |
2.7 活体试验结果 | 第48-49页 |
2.8 次生代谢物的毒力测定 | 第49页 |
3. 讨论与结论 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-58页 |
英文摘要 | 第58-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
图版说明 | 第62-68页 |