低压反应离子镀设备关键技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·光学薄膜与现代光学系统 | 第8-9页 |
| ·光学薄膜制备技术的发展与应用 | 第9-16页 |
| ·低压反应离子镀技术的研究与应用 | 第16-21页 |
| ·本课题立题依据与研究内容 | 第21-28页 |
| 第二章 低压反应离子镀技术原理 | 第28-43页 |
| ·气体放电与等离子体 | 第28-37页 |
| ·低压反应离子镀工作原理 | 第37-39页 |
| ·主要问题和关键技术 | 第39-43页 |
| 第三章 等离子源的研究与设计 | 第43-64页 |
| ·概述 | 第43-48页 |
| ·阴极 | 第48-56页 |
| ·阴极放电室 | 第56-57页 |
| ·引出系统 | 第57-58页 |
| ·电源及其控制系统 | 第58-64页 |
| 第四章 电子枪-坩埚的研究与设计 | 第64-71页 |
| ·工作原理 | 第64-65页 |
| ·常规电子枪-坩埚的结构与问题 | 第65-67页 |
| ·低压反应离子镀电子枪-坩埚的设计 | 第67-71页 |
| 第五章 常规镀膜机的改造与实验结果 | 第71-87页 |
| ·常规镀膜机的改造 | 第71-72页 |
| ·等离子源单独放电实验结果 | 第72-79页 |
| ·系统联试实验结果 | 第79-83页 |
| ·问题说明与讨论 | 第83-87页 |
| 第六章 薄膜的制备与性质 | 第87-96页 |
| ·制备薄膜的工艺过程 | 第87-88页 |
| ·薄膜的微结构 | 第88页 |
| ·镀膜的均匀性 | 第88-89页 |
| ·薄膜的时间稳定性和化学稳定性 | 第89-93页 |
| ·薄膜的力学性质 | 第93-94页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第94-96页 |
| 第七章 结论 | 第96-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-104页 |
| 附录Ⅰ 照片 | 第104-106页 |
| 附录Ⅱ 攻读博士期间发表的论文 | 第106页 |
