| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-41页 |
| ·引言 | 第17-18页 |
| ·TiO_2纳米粒子的纳米半导体性质 | 第18-19页 |
| ·TiO_2纳米粒子的光催化特性 | 第19-23页 |
| ·TiO_2纳米粒子的制备及改性的研究进展 | 第23-27页 |
| ·蒙脱石的结构和特性 | 第27-31页 |
| ·蒙脱石的微观结构 | 第27-29页 |
| ·蒙脱石的基本特性 | 第29-31页 |
| ·柱撑蒙脱石的研究进展 | 第31-34页 |
| ·无机柱撑蒙脱石的机理研究 | 第32页 |
| ·有机柱撑蒙脱石的机理研究 | 第32-34页 |
| ·二氧化钛柱撑蒙脱石的研究进展 | 第34-37页 |
| ·二氧化钛光催化剂的固定化 | 第34-35页 |
| ·二氧化钛柱撑蒙脱石的研究进展 | 第35-36页 |
| ·二氧化钛-有机柱撑蒙脱石的研究 | 第36-37页 |
| ·研究目的和意义 | 第37页 |
| ·研究内容 | 第37-41页 |
| 第二章 DEA修饰二氧化钛的形貌、粒径调控过程 | 第41-55页 |
| ·前言 | 第41-42页 |
| ·实验材料与仪器 | 第42页 |
| ·实验材料 | 第42页 |
| ·分析仪器 | 第42页 |
| ·DEA修饰二氧化钛的制备 | 第42-45页 |
| ·实验步骤 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-45页 |
| ·DEA修饰二氧化钛的条件优化 | 第45-53页 |
| ·DEA修饰二氧化钛条件优化步骤 | 第45-46页 |
| ·Ti~(4+)的浓度对合成DEA-TiO_2纳米粒子影响 | 第46-49页 |
| ·H~+的浓度对合成DEA-TiO_2纳米粒子影响 | 第49-51页 |
| ·合成温度对合成DEA-TiO_2纳米粒子影响 | 第51-53页 |
| ·DEA的浓度对合成DEA-TiO_2纳米粒子影响 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第三章 纳米氧化钛插层反应改性蒙脱石 | 第55-69页 |
| ·前言 | 第55-56页 |
| ·实验材料与仪器 | 第56-58页 |
| ·实验材料 | 第56-57页 |
| ·分析仪器 | 第57-58页 |
| ·实验步骤 | 第58-60页 |
| ·蒙脱石的预处理 | 第58页 |
| ·柱撑剂DEA-TiO_2 | 第58页 |
| ·TM的合成步骤 | 第58-59页 |
| ·TMC的合成步骤 | 第59页 |
| ·CMT的合成步骤 | 第59页 |
| ·TCM的合成步骤 | 第59-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-68页 |
| ·傅里叶变换红外(FT-IR)光谱分析 | 第60-62页 |
| ·傅里叶变换拉曼(FT-Raman)光谱分析 | 第62-63页 |
| ·热重(TG)分析 | 第63-64页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第64-66页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)分析 | 第66-67页 |
| ·漫反射紫外-可见(UV-Vis)光谱分析 | 第67页 |
| ·比表面积和孔结构分析 | 第67-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 第四章 CTAB调控DEA-TiO2柱撑蒙脱石的吸附与光催化性能 | 第69-77页 |
| ·前言 | 第69-70页 |
| ·实验材料与仪器 | 第70-72页 |
| ·实验材料 | 第70页 |
| ·分析仪器 | 第70页 |
| ·甲基橙标准曲线的确定 | 第70-72页 |
| ·CTAB调控DEA-TiO_2柱撑蒙脱石的吸附性能 | 第72-75页 |
| ·实验步骤 | 第72页 |
| ·吸附土用量的影响 | 第72-73页 |
| ·各类柱撑蒙脱石的吸附性能比较 | 第73-74页 |
| ·焙烧对复合柱撑蒙脱石吸附能力的影响 | 第74-75页 |
| ·CTAB调控DEA-TiO_2柱撑蒙脱石的光催化性能 | 第75-76页 |
| ·实验步骤 | 第75页 |
| ·CTAB调控DEA-TiO_2柱撑蒙脱石的光催化性能影响 | 第75-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第五章 结论及建议 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第77页 |
| ·建议 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第87-89页 |
| 导师与作者简介 | 第89-90页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第90-91页 |
