| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·TiB_2 陶瓷材料 | 第9-16页 |
| ·TiB_2 的结构、性能及其应用 | 第9-11页 |
| ·TiB_2 粉末的制备方法 | 第11-13页 |
| ·单相TiB_2 陶瓷的制备方法及国内外研究进展 | 第13-16页 |
| ·放电等离子烧结技术简介 | 第16页 |
| ·本文研究的目的、意义及主要内容 | 第16-19页 |
| ·本文研究的目的和意义 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验方案与方法 | 第19-27页 |
| ·实验原料 | 第19-20页 |
| ·氢电弧等离子体蒸发冷凝法制备初始粉末 | 第19-20页 |
| ·机械合金化制备TiH_2 原料粉末 | 第20页 |
| ·反应温度的确定 | 第20-21页 |
| ·坯体制备与烧结成型 | 第21-22页 |
| ·实验设计 | 第22-24页 |
| ·实验设备与测试方法 | 第24-27页 |
| ·主要实验设备 | 第24页 |
| ·测试设备及测试方法 | 第24-27页 |
| 第3章 原料粉末的制备及表征 | 第27-33页 |
| ·纳米B 粉的表征 | 第27页 |
| ·氢电弧等离子体蒸发冷凝法制备粉末的表征 | 第27-29页 |
| ·机械合金化制备TiH_2 原料粉末 | 第29-31页 |
| ·对比实验的Ti 原料粉末 | 第31-33页 |
| 第4章 SPS 制备TiB_2 单相陶瓷块体的工艺研究 | 第33-49页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·SPS 过程的工艺 | 第33-34页 |
| ·SPS 反应烧结TiB_2 烧结工艺的确定 | 第34-35页 |
| ·反应烧结最终温度的确定 | 第34-35页 |
| ·压力和保温时间对烧结效果的影响 | 第35页 |
| ·SPS 过程的工艺研究 | 第35-38页 |
| ·烧结时间、温度和位移的变化曲线分析 | 第36-38页 |
| ·真空度随烧结温度的变化曲线分析 | 第38页 |
| ·烧结体性能测试 | 第38-47页 |
| ·烧结温度对样品致密度的影响 | 第38-41页 |
| ·烧结温度对样品硬度的影响 | 第41-45页 |
| ·烧结温度对抗弯强度的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第5章 SPS 制备TiB_2 块体的表征 | 第49-57页 |
| ·前言 | 第49页 |
| ·TiB_2 烧结体的XRD 分析 | 第49-52页 |
| ·不同温度下烧结试样的XRD 分析 | 第49-51页 |
| ·烧结样品晶胞参数的求解 | 第51-52页 |
| ·扫描电镜断面分析 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |