摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-21页 |
·引言 | 第7-8页 |
·国内外光伏产业概况 | 第8-9页 |
·我国光伏产业现状 | 第8-9页 |
·国外光伏产业现状 | 第9页 |
·多晶硅的分类和提纯方法 | 第9-15页 |
·多晶硅的分类 | 第9页 |
·多晶硅主要提纯方法 | 第9-14页 |
·化学提纯方法 | 第9-11页 |
·物理提纯方法(冶金提纯法) | 第11-14页 |
·物理法(冶金法)和化学法生产高纯度多晶硅的比较 | 第14-15页 |
·国内外多晶硅生产状况 | 第15-16页 |
·国内外多晶硅产能与需求情况 | 第16-17页 |
·国内外多晶硅的生产技术 | 第17-18页 |
·国外多晶硅生产技术的主要发展的特点 | 第17-18页 |
·国内多晶硅生产技术的主要发展的特点 | 第18页 |
·国内行业发展的主要问题 | 第18-19页 |
·国家对行业发展的指导与建议 | 第19页 |
·本课题的研究意义及实验方案 | 第19-21页 |
·本课题的研究意义 | 第19-20页 |
·实验方案 | 第20-21页 |
第二章 实验部分 | 第21-38页 |
·实验材料及设备简介 | 第21-22页 |
·主要实验原材料及试剂 | 第21页 |
·主要实验设备 | 第21-22页 |
·实验分析检测仪器简介 | 第22-26页 |
·金相显微镜 | 第22页 |
·ICP-AES | 第22-23页 |
·EBSD(electron backscatter diffraction)的工作原理及应用 | 第23-26页 |
·XRD(X-ray diffraction)的工作原理及应用 | 第26页 |
·本实验的两个重要理论简述 | 第26-36页 |
·真空熔炼去除非金属及金属杂质的主要原理 | 第26-31页 |
·定向凝固除去金属中杂质的原理 | 第31-36页 |
·真空熔炼定向凝固实验及检测步骤 | 第36-38页 |
·实验步骤 | 第36-37页 |
·检测步骤 | 第37-38页 |
第三章 实验检测结果及分析讨论 | 第38-53页 |
·真空定向凝固处理后样品中主要杂质含量的变化及分布 | 第38-40页 |
·样品中主要杂质含量的变化 | 第38-39页 |
·硅样品中主要杂质Al的含量分布 | 第39-40页 |
·多晶硅晶体生长形态分析 | 第40-44页 |
·晶体形核 | 第40-41页 |
·晶体长大 | 第41-42页 |
·定向凝固生长 | 第42-44页 |
·晶体的腐蚀和表征 | 第44-45页 |
·真空定向凝固处理后样品的XRD分析 | 第45-50页 |
·真空定向凝固处理后样品的EBSD分析 | 第50-53页 |
第四章 结论与展望 | 第53-55页 |
·实验结论 | 第53页 |
·展望及建议 | 第53-55页 |
致谢 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
附录 攻读硕士期间参与的主要工作 | 第59页 |