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真空冶金法提纯高铝掺杂单晶硅尾料

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-21页
   ·引言第7-8页
   ·国内外光伏产业概况第8-9页
     ·我国光伏产业现状第8-9页
     ·国外光伏产业现状第9页
   ·多晶硅的分类和提纯方法第9-15页
     ·多晶硅的分类第9页
     ·多晶硅主要提纯方法第9-14页
       ·化学提纯方法第9-11页
       ·物理提纯方法(冶金提纯法)第11-14页
     ·物理法(冶金法)和化学法生产高纯度多晶硅的比较第14-15页
   ·国内外多晶硅生产状况第15-16页
   ·国内外多晶硅产能与需求情况第16-17页
   ·国内外多晶硅的生产技术第17-18页
     ·国外多晶硅生产技术的主要发展的特点第17-18页
     ·国内多晶硅生产技术的主要发展的特点第18页
   ·国内行业发展的主要问题第18-19页
   ·国家对行业发展的指导与建议第19页
   ·本课题的研究意义及实验方案第19-21页
     ·本课题的研究意义第19-20页
     ·实验方案第20-21页
第二章 实验部分第21-38页
   ·实验材料及设备简介第21-22页
     ·主要实验原材料及试剂第21页
     ·主要实验设备第21-22页
   ·实验分析检测仪器简介第22-26页
     ·金相显微镜第22页
     ·ICP-AES第22-23页
     ·EBSD(electron backscatter diffraction)的工作原理及应用第23-26页
     ·XRD(X-ray diffraction)的工作原理及应用第26页
   ·本实验的两个重要理论简述第26-36页
       ·真空熔炼去除非金属及金属杂质的主要原理第26-31页
       ·定向凝固除去金属中杂质的原理第31-36页
   ·真空熔炼定向凝固实验及检测步骤第36-38页
     ·实验步骤第36-37页
     ·检测步骤第37-38页
第三章 实验检测结果及分析讨论第38-53页
   ·真空定向凝固处理后样品中主要杂质含量的变化及分布第38-40页
     ·样品中主要杂质含量的变化第38-39页
     ·硅样品中主要杂质Al的含量分布第39-40页
   ·多晶硅晶体生长形态分析第40-44页
     ·晶体形核第40-41页
     ·晶体长大第41-42页
     ·定向凝固生长第42-44页
   ·晶体的腐蚀和表征第44-45页
   ·真空定向凝固处理后样品的XRD分析第45-50页
   ·真空定向凝固处理后样品的EBSD分析第50-53页
第四章 结论与展望第53-55页
   ·实验结论第53页
   ·展望及建议第53-55页
致谢第55-56页
参考文献第56-59页
附录 攻读硕士期间参与的主要工作第59页

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