| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·纳米材料 | 第9-17页 |
| ·纳米材料概念 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的性质 | 第10-11页 |
| ·纳米块体材料的应用 | 第11-13页 |
| ·纳米块体材料的制备 | 第13-17页 |
| ·自蔓延高温合成技术 | 第17-23页 |
| ·自蔓延高温合成技术简介 | 第17-18页 |
| ·自蔓延高温合成技术研究现状 | 第18-19页 |
| ·自蔓延高温合成—致密化技术研究现状 | 第19-23页 |
| ·自蔓延高温合成快速加压法制备纳米块体材料课题研究思路 | 第23-25页 |
| 第二章 自蔓延高温合成快速加压法制备单相氧化物陶瓷 | 第25-38页 |
| ·自蔓延高温合成快速加压技术及工艺特点 | 第25-29页 |
| ·SHS/QP温度-时间状态 | 第26-28页 |
| ·SHS/QP压力-时间状态 | 第28-29页 |
| ·SHS/QP制备单相纳米氧化物陶瓷块体 | 第29-36页 |
| ·SHS体系研究 | 第30-33页 |
| ·SHS/QP烧结材料 | 第33-35页 |
| ·实验方法和过程 | 第35-36页 |
| ·分析与测试 | 第36-38页 |
| ·密度测定 | 第36-37页 |
| ·X射线衍射 | 第37页 |
| ·场发射扫描电镜 | 第37-38页 |
| 第三章 纳米陶瓷烧结的晶粒生长与致密化过程研究 | 第38-57页 |
| ·烧结与晶粒生长 | 第38-43页 |
| ·烧结过程 | 第38-40页 |
| ·晶粒生长过程 | 第40-42页 |
| ·晶粒生长概念及分析方法 | 第42-43页 |
| ·纳米陶瓷烧结过程晶粒生长现象 | 第43-53页 |
| ·SHS/QP过程晶粒生长现象 | 第44-51页 |
| ·普通无压烧结过程晶粒生长现象 | 第51-53页 |
| ·晶粒生长对纳米陶瓷致密度的影响 | 第53-56页 |
| ·正常晶粒生长 | 第53-54页 |
| ·异常晶粒生长 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 纳米氧化镁陶瓷快速烧结致密化工艺与微观结构分析 | 第57-68页 |
| ·SHS/QP法制备氧化镁纳米陶瓷 | 第57-63页 |
| ·温度对块体致密度的作用 | 第57-60页 |
| ·压力对块体致密度的作用 | 第60-63页 |
| ·无压烧结与SHS/QP法制备氧化镁纳米陶瓷 | 第63-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 SHS/QP烧结致密化机理研究 | 第68-79页 |
| ·与时间相关的致密化机制 | 第68-73页 |
| ·位错蠕变 | 第68-69页 |
| ·扩散蠕变 | 第69-73页 |
| ·与时间不相关的致密化机制 | 第73-77页 |
| ·下一步工作计划 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 全文总结 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
