| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第15-27页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外研究进展 | 第16-25页 |
| 1.2.1 国外研究进展 | 第16-23页 |
| 1.2.2 国内研究进展 | 第23-25页 |
| 1.3 本论文主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 光学薄膜吸收基础知识 | 第27-45页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 光吸收损耗的数学表述和K-K变换 | 第27-30页 |
| 2.2.1 光吸收损耗的数学表述 | 第27-28页 |
| 2.2.2 光学常数的K-K变换 | 第28-30页 |
| 2.3 光学薄膜吸收机制 | 第30-36页 |
| 2.3.1 光吸收的经典解释 | 第31-32页 |
| 2.3.2 光吸收的微观机制 | 第32-33页 |
| 2.3.3 光学薄膜吸收机制 | 第33-35页 |
| 2.3.4 光学薄膜的吸收和发光特征 | 第35-36页 |
| 2.4 光学基片和光学薄膜的吸收测试和计算 | 第36-43页 |
| 2.4.1 光度光谱法 | 第36-40页 |
| 2.4.2 光谱椭偏法 | 第40-41页 |
| 2.4.3 光热法 | 第41-43页 |
| 2.5 光学薄膜光致发光谱测试 | 第43-44页 |
| 2.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 SiO_2光学薄膜吸收机理研究 | 第45-81页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 石英玻璃的特点和吸收机理 | 第45-49页 |
| 3.2.1 石英玻璃的特点 | 第45-46页 |
| 3.2.2 石英玻璃的吸收机理 | 第46-49页 |
| 3.3 石英玻璃吸收测试和分析 | 第49-57页 |
| 3.3.1 石英玻璃中杂质的吸收 | 第50-51页 |
| 3.3.2 石英玻璃中的羟基吸收 | 第51-53页 |
| 3.3.3 石英玻璃的微观缺陷吸收 | 第53-57页 |
| 3.4 SiO_2薄膜吸收原因 | 第57-69页 |
| 3.4.1 实验准备 | 第57-58页 |
| 3.4.2 SiO_2薄膜中的水吸收 | 第58-59页 |
| 3.4.3 SiO_2薄膜中羟基吸收 | 第59-61页 |
| 3.4.4 SiO_2薄膜短波带边吸收研究 | 第61-69页 |
| 3.5 SiO_2薄膜的光致发光特性 | 第69-74页 |
| 3.5.1 三种SiO_2薄膜发光谱测试和分解 | 第70-73页 |
| 3.5.2 SiO_2薄膜的发光原因分析 | 第73-74页 |
| 3.6 SiO_2薄膜在1064nm波长的吸收因素 | 第74-78页 |
| 3.7 本章小结 | 第78-81页 |
| 第4章 低吸收Ta_2O_5光学薄膜研究 | 第81-103页 |
| 4.1 引言 | 第81页 |
| 4.2 Ta_2O_5薄膜的吸收机理研究 | 第81-92页 |
| 4.2.1 Ta_2O_5薄膜的氧空位缺陷吸收 | 第81-85页 |
| 4.2.2 Ta_2O_5薄膜的红外振动吸收 | 第85-87页 |
| 4.2.3 Ta_2O_5薄膜中水的吸收 | 第87页 |
| 4.2.4 Ta_2O_5薄膜多波长吸收特性 | 第87-89页 |
| 4.2.5 Ta_2O_5薄膜的发光特性 | 第89-91页 |
| 4.2.6 Ta_2O_5薄膜的吸收机理分析 | 第91-92页 |
| 4.3 Ta_2O_5薄膜离子辅助工艺优化 | 第92-97页 |
| 4.3.1 光学性能和离子源偏压的关系 | 第93-95页 |
| 4.3.2 物理性能与离子源偏压关系 | 第95-97页 |
| 4.4 低吸收Ta_2O_5/SiO_2多波长滤光片制备 | 第97-101页 |
| 4.4.1 单层Ta_2O_5和SiO_2薄膜参数实验准备 | 第98-99页 |
| 4.4.2 滤光片设计和制备 | 第99-101页 |
| 4.5 本章小结 | 第101-103页 |
| 第5章 HfO_2光学薄膜的吸收和发光特性研究 | 第103-119页 |
| 5.1 引言 | 第103页 |
| 5.2 HfO_2薄膜的吸收机理研究 | 第103-108页 |
| 5.2.1 HfO_2薄膜的吸收原因 | 第103-107页 |
| 5.2.2 HfO_2薄膜的带隙宽度 | 第107-108页 |
| 5.3 HfO_2薄膜光致发光特性 | 第108-113页 |
| 5.3.1 HfO_2薄膜光致发光谱和XRD结构测试 | 第108-111页 |
| 5.3.2 HfO_2薄膜发光机制研究 | 第111-112页 |
| 5.3.3 HfO_2薄膜吸收机理分析 | 第112-113页 |
| 5.4 低吸收HfO_2薄膜镀膜工艺优化 | 第113-116页 |
| 5.4.1 离子辅助HfO_2薄膜的吸收特性 | 第113-115页 |
| 5.4.2 电子束蒸发HfO_2薄膜的吸收特性 | 第115-116页 |
| 5.5 本章小结 | 第116-119页 |
| 第6章 总结和展望 | 第119-123页 |
| 6.1 论文主要工作 | 第119-121页 |
| 6.2 本论文创新点 | 第121页 |
| 6.3 存在的问题及对后续工作的建议 | 第121-123页 |
| 参考文献 | 第123-139页 |
| 致谢 | 第139-141页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第141-142页 |
