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含硼、氮及磷化合物的合成、表征及性质研究

摘要第6-8页
Abstract第8-10页
第1章 引言与文献综述第14-36页
    1.1 单晶的介绍第14-15页
    1.2 单晶的培养第15-17页
        1.2.1 挥发法第15-16页
        1.2.2 扩散法第16页
        1.2.3 温差法第16-17页
        1.2.4 接触法第17页
        1.2.5 高压釜法第17页
    1.3 单晶的结构表达第17-18页
    1.4 晶体结构的研究应用及发展进展第18-19页
    1.5 硼化合物晶体的研究进展第19-24页
        1.5.1 硼化合物晶体在荧光领域的应用第19-22页
        1.5.2 硼化合物晶体在荧光领域的发展现状第22-23页
        1.5.3 硼化合物晶体在抑菌领域的应用第23-24页
    1.6 含氮化合物晶体的研究进展第24-30页
        1.6.1 NO的来源及危害第25-26页
        1.6.2 烟气脱硝技术第26-27页
        1.6.3 催化剂的选择第27-30页
    1.7 有机膦金属框架晶体的研究进展第30-34页
        1.7.1 金属有机框架的分类第30-32页
        1.7.2 金属有机框架的稳定性研究第32-33页
        1.7.3 金属有机膦配合物的发展第33-34页
    1.8 本文主要研究目的及内容第34-36页
第2章 芳基螺旋硼铵盐化合物的合成及其晶体结构、荧光性质和抑菌活性研究第36-66页
    2.1 引言第36-37页
    2.2 实验部分第37-43页
        2.2.1 药品第37页
        2.2.2 芳基螺旋硼铵盐的制备第37-42页
        2.2.3 表征第42-43页
        2.2.4 晶体学第43页
        2.2.5 抗菌活性测试第43页
    2.3 结果与讨论第43-65页
        2.3.1 晶体结构描述第43-51页
        2.3.2 硼铵盐化合物的形成机理第51-52页
        2.3.3 荧光发光性质第52-57页
        2.3.4 抗菌活性第57-65页
    2.4 结论第65-66页
第3章 含氮铜配合物辅助合成的多孔CuO/Cu_2O异质结及其氨气选择性催化还原NO的性能、机理及环境影响因素研究第66-91页
    3.1 引言第66-67页
    3.2 实验部分第67-71页
        3.2.1 药品第67-68页
        3.2.2 合成第68-69页
        3.2.3 表征第69-70页
        3.2.4 晶体学测试第70页
        3.2.5 NH_3 选择性催还还原(NH_3-SCR)氮氧化物的活性测试第70-71页
    3.3 结果与讨论第71-87页
        3.3.1 结构和形貌分析第71-77页
        3.3.2 NH_3-SCR催化活性测试第77-80页
        3.3.3 NO和NH_3的氧化实验第80-82页
        3.3.4 BET结果分析第82-83页
        3.3.5 X射线光电子能谱分析第83-85页
        3.3.6 氢气程序升温还原(H_2-TPR)和氨气程序升温脱附(NH_3-TPD)分析第85-87页
    3.4 环境影响因素探讨第87-90页
        3.4.1 水和二氧化硫的影响第87-88页
        3.4.2 碱金属和碳氢化合物第88-90页
    3.5 结论第90-91页
第4章 基于1,4-二亚甲基苯双磷酸的金属有机框架的合成、晶体结构及稳定性研究第91-111页
    4.1 引言第91-92页
    4.2 实验部分第92-95页
        4.2.1 药品第92页
        4.2.2 合成第92-94页
        4.2.3 表征第94-95页
        4.2.4 晶体学第95页
        4.2.5 化学稳定性测试第95页
    4.3 结果与讨论第95-110页
        4.3.1 晶体结构的描述第95-105页
        4.3.2 化学稳定性分析第105-110页
    4.4 结论第110-111页
第5章 总结与展望第111-113页
    5.1 结论第111-112页
    5.2 展望第112-113页
参考文献第113-129页
发表论文第129-131页
致谢第131页

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