球面近场测量位置误差分析及MARS修正方法研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-23页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第15-17页 |
| 1.2 近场测量技术发展 | 第17-21页 |
| 1.2.1 基本概念 | 第17-18页 |
| 1.2.2 近场测量的特点 | 第18-19页 |
| 1.2.3 球面近场测量的特点 | 第19-20页 |
| 1.2.4 国内外研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 球面近场测量系统及近远场变换理论 | 第23-39页 |
| 2.1 球面近场测量系统 | 第23-29页 |
| 2.1.1 测量系统的组成 | 第23-24页 |
| 2.1.2 系统的工作原理 | 第24-26页 |
| 2.1.3 系统的技术特点 | 第26-29页 |
| 2.2 球面近远场变换基本原理 | 第29-35页 |
| 2.2.1 球面近场测量的基本原理 | 第29-34页 |
| 2.2.2 近场远场变换原理 | 第34-35页 |
| 2.3 球面近场测量的三种坐标系 | 第35-39页 |
| 第三章 球面近场测量中误差分析 | 第39-57页 |
| 3.1 近场测量中的主要误差来源 | 第39-41页 |
| 3.2 被测件架设位置对测量结果的影响 | 第41-46页 |
| 3.2.1 球面近场测量的测量参数 | 第41-42页 |
| 3.2.2 理论分析 | 第42-43页 |
| 3.2.3 结果分析 | 第43-46页 |
| 3.3 球面近场测量暗室环境要求 | 第46-57页 |
| 3.3.1 微波暗室的性能指标 | 第46-48页 |
| 3.3.2 微波暗室的尺寸 | 第48-50页 |
| 3.3.3 暗室吸波材料的选择 | 第50-51页 |
| 3.3.4 暗室屏蔽要求 | 第51-52页 |
| 3.3.5 暗室屏蔽能效测量 | 第52-57页 |
| 第四章MARS修正技术研究 | 第57-73页 |
| 4.1 暗室环境对天线测量的影响 | 第57-62页 |
| 4.1.1 1G以下的测量场所分析 | 第57页 |
| 4.1.2 1G以上的测量场所分析 | 第57页 |
| 4.1.3 数学仿真模型的分析 | 第57-60页 |
| 4.1.4 吸波材料对测量的影响 | 第60-61页 |
| 4.1.5 暗室尺寸对测量的影响 | 第61-62页 |
| 4.2 MARS方法研究 | 第62-65页 |
| 4.2.1 MARS技术的基本原理 | 第62-63页 |
| 4.2.2 MARS技术的操作流程 | 第63-65页 |
| 4.3 MARS技术修正效果 | 第65-73页 |
| 4.3.1 MARS技术在球面近场中的应用 | 第65-68页 |
| 4.3.2 MARS技术在远场中的应用 | 第68-73页 |
| 第五章 总结与发展 | 第73-75页 |
| 5.1 本文小结 | 第73页 |
| 5.2 后续研究内容 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 作者简介 | 第79-80页 |
