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疏水SiO2宽频增透膜的制备及其性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-26页
    1.1 光学薄膜的概况第11页
    1.2 减反射薄膜第11-15页
        1.2.1 减反射膜的概述第11-12页
        1.2.2 减反射膜的发展第12-13页
        1.2.3 减反射膜的应用第13-15页
    1.3 减反射原理第15-18页
    1.4 减反射薄膜制备方法第18-19页
        1.4.1 物理法第18页
        1.4.2 化学法第18-19页
    1.5 溶胶―凝胶工艺第19-24页
        1.5.1 溶胶―凝胶法的历史发展第19-21页
        1.5.2 溶胶―凝胶反应机理第21页
        1.5.3 溶胶―凝胶工艺的影响因素第21-23页
        1.5.4 溶胶―凝胶工艺的优缺点第23页
        1.5.5 溶胶―凝胶镀膜工艺第23-24页
    1.6 论文研究意义及内容第24-26页
第2章 实验原材料、仪器及方法第26-35页
    2.1 实验材料与实验仪器第26-27页
        2.1.1 实验用药品第26页
        2.1.2 实验用基底材料第26-27页
        2.1.3 实验仪器第27页
    2.2 测试仪器及分析方法第27-31页
        2.2.1 溶胶粘度测试第27-28页
        2.2.2 溶胶TEM测试第28页
        2.2.3 膜层透过率测试第28页
        2.2.4 膜层折射率测试第28页
        2.2.5 膜层微观形貌测试第28-29页
        2.2.6 膜层接触角测试第29页
        2.2.7 薄膜机械力测试第29-30页
        2.2.8 薄膜红外测试第30页
        2.2.9 比表面积及孔径测试第30-31页
    2.3 溶胶的制备第31-33页
        2.3.1 疏水溶胶的制备第31页
        2.3.2 碱/酸混合溶胶的制备第31-33页
    2.4 薄膜的制备第33-35页
        2.4.1 疏水薄膜的制备第33页
        2.4.2 碱(酸)催化薄膜的制备第33页
        2.4.3 碱/酸混合溶胶薄膜的制备第33页
        2.4.4 双层薄膜的制备第33-35页
第3章 疏水SiO_2薄膜的制备与表征第35-49页
    3.1 实验参数第35页
    3.2 工艺参数对溶胶性能的影响第35-40页
        3.2.1 溶胶粘度随R值变化规律第35-37页
        3.2.2 溶胶TEM分析第37-38页
        3.2.3 比表面及孔径分析第38-40页
    3.3 工艺参数对薄膜性能的影响第40-47页
        3.3.1 提拉速度对薄膜均匀性影响第40-42页
        3.3.2 薄膜接触角随R值的变化第42-44页
        3.3.3 薄膜的疏水持效性第44-45页
        3.3.4 薄膜折射率随R值的变化第45-46页
        3.3.5 改性薄膜透过率第46-47页
    3.4 本章小结第47-49页
第4章 疏水宽频增透膜的制备与表征第49-62页
    4.1 碱/酸催化混合溶胶制备参数第49页
    4.2 碱(酸)催化制备SiO_2薄膜第49-54页
        4.2.1 碱(酸)催化SiO_2溶胶粘度变化第49-50页
        4.2.2 透过率及形貌分析第50-52页
        4.2.3 耐摩擦性分析第52-54页
    4.3 碱/酸催化混合制备SiO_2薄膜第54-58页
        4.3.1 碱/酸催化混合SiO_2溶胶粘度变化第54-55页
        4.3.2 薄膜折射率及机械性能第55-57页
        4.3.3 薄膜透过率及形貌分析第57-58页
    4.4 疏水双层宽频增透膜的制备与表征第58-60页
    4.5 本章小结第60-62页
第5章 结论与展望第62-65页
    5.1 结论第62-63页
    5.2 展望第63-65页
参考文献第65-69页
致谢第69-70页
攻读硕士期间发表的论文第70页

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