| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·太阳能电池材料的研究现状和发展趋势 | 第10-15页 |
| ·硅薄膜的沉积方法 | 第15-17页 |
| ·物理气相沉积方法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| ·硅薄膜的二次晶化方法 | 第17-18页 |
| ·固相晶化法(SPC) | 第17页 |
| ·激光晶化法 | 第17页 |
| ·金属诱导晶化法(MIC) | 第17-18页 |
| ·金属诱导硅薄膜多晶化的研究进展 | 第18-19页 |
| ·本课题的研究目的和意义 | 第19-20页 |
| ·本课题的研究内容和方法 | 第20-21页 |
| 第二章 实验设备和方法 | 第21-30页 |
| ·实验原理与设备 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射原理和分类 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射设备 | 第22-23页 |
| ·纳米划痕实验原理 | 第23-25页 |
| ·实验材料的准备 | 第25-26页 |
| ·薄膜沉积材料的准备 | 第25-26页 |
| ·衬底材料的选取、准备 | 第26页 |
| ·镀膜工艺流程与性能检测 | 第26-27页 |
| ·薄膜的退火热处理 | 第27页 |
| ·薄膜的测试方法 | 第27-30页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第27页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第27页 |
| ·扫描电镜及能谱分析 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第28页 |
| ·紫外-可见光谱分析 | 第28-29页 |
| ·划痕试验分析 | 第29-30页 |
| 第三章 a-Si/NiTi 薄膜的磁控溅射工艺与性能 | 第30-43页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜工艺的优化 | 第31-42页 |
| ·NiTi 过渡层上a-Si 的沉积特性及表面粗糙度 | 第31-36页 |
| ·NiTi 过渡层上a-Si 的结晶性能分析 | 第36-38页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜的光吸收性能分析 | 第38-40页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜的力学性能分析 | 第40-42页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜工艺的参数的确定 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 a-Si/NiTi 薄膜的退火工艺与性能 | 第43-56页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜沉积及退火工艺的选择 | 第43-44页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜退火后的微结构 | 第44-48页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜退火后的结晶性能分析 | 第44-46页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜退火后的微观结构分析 | 第46-48页 |
| ·NiTi 诱导a-Si 结晶的原理分析 | 第48-52页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜退火后的光性能分析 | 第52-53页 |
| ·a-Si/NiTi 薄膜退火后的力学性能分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 SiN/a-Si/poly-Si/NiTi 多层膜的制备与性能 | 第56-61页 |
| ·SiN/a-Si/poly-Si/NiTi 多层膜的设计和制备 | 第56-57页 |
| ·SiN/a-Si/poly-Si/NiTi 多层膜的微结构 | 第57-58页 |
| ·SiN/a-Si/poly-Si/NiTi 多层膜的光性能分析 | 第58-59页 |
| ·SiN/a-Si/poly-Si/NiTi 多层膜的力学性能分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在学习期间发表的学术论文 | 第70页 |
