| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZnO纳米材料的基本结构及特性 | 第11-14页 |
| ·ZnO晶体基本性质 | 第11-13页 |
| ·ZnO材料的缺陷 | 第13-14页 |
| ·DSSC的研究概况 | 第14-18页 |
| ·DSSC组成结构 | 第14-17页 |
| ·DSSC工作原理 | 第17-18页 |
| ·ZnO基DSSC的局限性及展望 | 第18页 |
| ·ZnO光催化剂的研究现状 | 第18-23页 |
| ·半导体氧化物光催化机理 | 第18-19页 |
| ·环境因素对半导体光催化性能的影响 | 第19-20页 |
| ·光催化剂的改性进展 | 第20-22页 |
| ·半导体光催化剂存在的问题 | 第22-23页 |
| ·本文的研究意义和主要工作 | 第23-24页 |
| 第二章 等级结构F-ZnO多孔棱柱阵列膜的制备及其在DSSC中的应用 | 第24-40页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-26页 |
| ·试剂和器材 | 第25页 |
| ·F-ZnO光阳极的制备 | 第25页 |
| ·DSSC的组装 | 第25-26页 |
| ·样品的表征 | 第26页 |
| ·结果与分析 | 第26-39页 |
| ·前驱体的晶体结构分析(XRD) | 第26-27页 |
| ·不同反应时间前躯体形貌分析(SEM) | 第27-29页 |
| ·多孔F-ZnO的XRD,EDX表征 | 第29页 |
| ·多孔F-ZnO的SEM,TEM,HRTEM表征 | 第29-31页 |
| ·光电性能研究与表征 | 第31-33页 |
| ·染料的吸附性能实验 | 第33-35页 |
| ·电化学分析 | 第35-37页 |
| ·厚度对DSSC电池性能的影响 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第三章 AG修饰等级结构F-ZNO多孔薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第40-51页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·试剂和仪器 | 第41页 |
| ·样品的制备 | 第41页 |
| ·样品的表征 | 第41-42页 |
| ·光催化性能评价 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-50页 |
| ·晶体结构(XRD分析) | 第42-43页 |
| ·SEM和TEM研究 | 第43-46页 |
| 3 3 .3 荧光光谱 | 第46-47页 |
| ·光催化性能分析 | 第47-50页 |
| ·结论 | 第50-51页 |
| 第四章 总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-60页 |
| 在校期间发表的论文及科研成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |