| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 引言 | 第8-10页 |
| 1.2 磁性薄膜的组织结构研究概况 | 第10-12页 |
| 1.3 应变对薄膜磁性能调控的研究概况 | 第12-16页 |
| 1.4 磁性薄膜的表面粘附性研究概况 | 第16页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 材料的制备和表征方法 | 第18-25页 |
| 2.1 材料的制备方法 | 第18-19页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术 | 第18-19页 |
| 2.1.2 基底的选择、预处理与清洗 | 第19页 |
| 2.2 薄膜微观组织结构与性能表征方法 | 第19-25页 |
| 2.2.1 椭圆偏振仪 | 第19-20页 |
| 2.2.2 万能材料试验机 | 第20页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜(SEM)及电子散射能谱(EDS) | 第20页 |
| 2.2.4 X射线衍射(XRD)及R-Axis Spider射线衍射仪 | 第20-22页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜(TEM) | 第22页 |
| 2.2.6 综合物理测试系统(PPMS)-振动样品磁强计(VSM) | 第22页 |
| 2.2.7 X射线光电子能谱(XPS) | 第22-23页 |
| 2.2.8 磁力显微镜(MFM) | 第23-24页 |
| 2.2.9 接触角与表面能 | 第24-25页 |
| 第3章 玻璃片表面NiFe薄膜的微观组织结构研究 | 第25-29页 |
| 3.1 玻璃片表面NiFe薄膜的实验结果与讨论 | 第25-28页 |
| 3.1.1 NiFe薄膜的XRD及TEM分析 | 第25-26页 |
| 3.1.2 NiFe薄膜微观组织结构与成分分析 | 第26-27页 |
| 3.1.3 NiFe薄膜的磁畴象分析 | 第27-28页 |
| 3.2 本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 NiTi表面NiFe薄膜的变形行为及磁学、粘附性研究 | 第29-45页 |
| 4.1 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)复合体系共同施加应变薄膜的实验结果与讨论 | 第29-39页 |
| 4.1.1 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)的XRD结果分析 | 第30-33页 |
| 4.1.2 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)的微观形貌分析 | 第33-34页 |
| 4.1.3 NiFe_((20nm))/NiTiNb_(10)的VSM结果分析 | 第34-35页 |
| 4.1.4 NiFe_((10nm))/NiTiNb_(10)的XPS结果分析 | 第35-37页 |
| 4.1.5 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)的表面接触角结果分析 | 第37-39页 |
| 4.1.6 本节小结 | 第39页 |
| 4.2 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)复合体系仅基底施加应变薄膜实验结果与讨论 | 第39-45页 |
| 4.2.1 NiFe_((10nm))/NiTiNb_(10)的R-Axis spider结果分析 | 第40-42页 |
| 4.2.2 NiFe_((20nm))/NiTiNb_(10)XRD结果分析 | 第42-43页 |
| 4.2.3 NiFe_((x))/NiTiNb_(10)微观形貌分析 | 第43页 |
| 4.2.4 本节小结 | 第43-45页 |
| 第5章 Cu表面NiFe薄膜共同施加应变薄膜的变形行为研究 | 第45-51页 |
| 5.1 NiFe_((x))/Cu复合体系共同施加应变表面薄膜的实验结果与讨论 | 第45-49页 |
| 5.1.1 NiFe_((x))/Cu的XRD结果分析 | 第46页 |
| 5.1.2 NiFe_((20nm))/Cu的R-Axis Spider结果分析 | 第46-47页 |
| 5.1.3 NiFe_((x))/Cu的SEM及EDS结果分析 | 第47-49页 |
| 5.2 NiFe_((x))/Cu复合体系原位拉伸-小角掠射的实验结果与讨论 | 第49-50页 |
| 5.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第6章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 附录 A表面能计算 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
