| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 超滤技术的应用及存在问题 | 第11-14页 |
| 1.1.1 国内外发展历程 | 第11-12页 |
| 1.1.2 超滤技术的特征 | 第12-13页 |
| 1.1.3 超滤技术存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.2 超滤膜污染的研究进展 | 第14-20页 |
| 1.2.1 膜污染的类型 | 第14-15页 |
| 1.2.2 膜污染机理的研究 | 第15-18页 |
| 1.2.3 三维荧光在膜污染物研究中的应用 | 第18-19页 |
| 1.2.4 膜污染控制的研究 | 第19-20页 |
| 1.3 高级氧化预处理的研究进展 | 第20-23页 |
| 1.3.1 自由基种类与活化方法 | 第20-21页 |
| 1.3.2 基于羟基自由基的高级氧化技术研究 | 第21-22页 |
| 1.3.3 基于硫酸根自由基的高级氧化技术研究 | 第22-23页 |
| 1.4 课题的主要研究内容及意义 | 第23-26页 |
| 1.4.1 课题的目的及意义 | 第23页 |
| 1.4.2 主要研究内容和技术路线图 | 第23-26页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第26-36页 |
| 2.1 原水情况及实验装置 | 第26-29页 |
| 2.1.1 原水水质 | 第26页 |
| 2.1.2 实验装置 | 第26-29页 |
| 2.2 实验药剂、耗材及仪器 | 第29-30页 |
| 2.3 检测分析方法 | 第30-36页 |
| 2.3.1 主要水质指标 | 第30页 |
| 2.3.2 分子量分级方法 | 第30-31页 |
| 2.3.3 膜污染测定及表征方法 | 第31-32页 |
| 2.3.4 原子力显微镜技术分析 | 第32-33页 |
| 2.3.5 耗散型石英晶体微天平技术分析 | 第33-34页 |
| 2.3.6 扫面电镜分析 | 第34页 |
| 2.3.7 傅里叶红外光谱分析 | 第34页 |
| 2.3.8 X射线光电子能谱分析 | 第34页 |
| 2.3.9 三维荧光分析 | 第34-36页 |
| 第3章 共存阳离子对天然有机物膜污染的影响 | 第36-48页 |
| 3.1 阳离子对膜污染影响研究 | 第36-37页 |
| 3.2 阳离子对膜污染界面作用研究 | 第37-40页 |
| 3.2.1 阳离子对粘附力影响分析 | 第37-38页 |
| 3.2.2 阳离子对吸附性能影响分析 | 第38-40页 |
| 3.3 阳离子对膜污染物形态结构影响研究 | 第40-45页 |
| 3.3.1 膜表面理化性质分析 | 第40页 |
| 3.3.2 膜表面污染物形貌分析 | 第40-41页 |
| 3.3.3 膜表面红外光谱分析 | 第41-43页 |
| 3.3.4 膜表面光电能谱分析 | 第43-45页 |
| 3.4 阳离子对荧光物质膜污染影响研究 | 第45-47页 |
| 3.4.1 荧光特性物质的识别 | 第45页 |
| 3.4.2 阳离子对荧光物质膜污染的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 不同分子量天然有机物的膜污染研究 | 第48-67页 |
| 4.1 有机物分子量分布情况 | 第48-49页 |
| 4.2 不同分子量有机物SUVA值变化情况 | 第49-50页 |
| 4.3 不同分子量有机物膜污染分析 | 第50-54页 |
| 4.3.1 有机物分子量对膜污染的影响 | 第50-52页 |
| 4.3.2 阳离子存在时不同分子量有机物膜污染特征 | 第52-54页 |
| 4.4 有机物分子量对膜污染界面作用研究 | 第54-57页 |
| 4.4.1 膜表面污染物粘附力分析 | 第54-55页 |
| 4.4.2 膜污染物吸附性能分析 | 第55-57页 |
| 4.5 有机物分子量对膜污染物形态结构的影响 | 第57-63页 |
| 4.5.1 膜表面理化性质分析 | 第57-58页 |
| 4.5.2 膜表面污染物形貌分析 | 第58-59页 |
| 4.5.3 膜表面红外光谱分析 | 第59-62页 |
| 4.5.4 膜表面光电能谱分析 | 第62-63页 |
| 4.6 不同分子量荧光物质膜污染行为研究 | 第63-66页 |
| 4.6.1 有机物分子量对荧光物质膜污染的影响 | 第63-64页 |
| 4.6.2 阳离子存在时不同分子量荧光物质膜污染特征 | 第64-66页 |
| 4.7 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 高级氧化预处理对天然有机物膜污染的控制 | 第67-85页 |
| 5.1 三种氧化技术对有机物去除效能研究 | 第67-72页 |
| 5.1.1 UV/PDS降解能力分析 | 第67-69页 |
| 5.1.2 UV/H2O2降解能力分析 | 第69-71页 |
| 5.1.3 UV/PMS降解能力分析 | 第71-72页 |
| 5.2 三种氧化技术对膜污染控制研究 | 第72-75页 |
| 5.2.1 预处理对有机物SUVA值的影响 | 第72-73页 |
| 5.2.2 预处理对膜污染控制分析 | 第73-74页 |
| 5.2.3 预处理对膜污染物形貌影响分析 | 第74-75页 |
| 5.3 自由基对膜污染控制研究 | 第75-76页 |
| 5.3.1 UV/PDS自由基作用效能分析 | 第75页 |
| 5.3.2 UV/H2O2自由基作用效能分析 | 第75-76页 |
| 5.3.3 UV/PMS自由基作用效能分析 | 第76页 |
| 5.4 UV/PMS对不同分子量NOM膜污染的控制 | 第76-83页 |
| 5.4.1 UV/PMS对不同分子量有机物SUVA值的影响 | 第77页 |
| 5.4.2 UV/PMS对不同分子量有机物膜污染控制 | 第77-79页 |
| 5.4.3 UV/PMS对膜污染物形貌的影响 | 第79-80页 |
| 5.4.4 UV/PMS对膜表面红外光谱的影响 | 第80-82页 |
| 5.4.5 UV/PMS对荧光物质膜污染的控制 | 第82-83页 |
| 5.5 本章小结 | 第83-85页 |
| 结论 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-99页 |
| 致谢 | 第99页 |
