| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1.绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 介质阻挡放电 | 第11-13页 |
| 1.1.1 介质阻挡放电的放电原理和性质 | 第11-12页 |
| 1.1.2 介质阻挡放电的研究和应用 | 第12-13页 |
| 1.2 低温等离子体 | 第13-17页 |
| 1.2.1 低温等离子体的概述 | 第13页 |
| 1.2.2 低温等离子体表面改性方法 | 第13-15页 |
| 1.2.3 低温等离子体表面处理产生的物理化学反应 | 第15页 |
| 1.2.4 低温等离子体表面处理效果的影响因素 | 第15-17页 |
| 1.3 气液等离子体的产生及研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 本文的选题及研究思路 | 第18-19页 |
| 2.实验装置及表征 | 第19-23页 |
| 2.1 实验装置 | 第19页 |
| 2.2 实验样品 | 第19-20页 |
| 2.3 测试与表征 | 第20-23页 |
| 2.3.1 表面水接触角测量 | 第20页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第20-21页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱 | 第21-22页 |
| 2.3.4 傅里叶红外变换全反射光谱 | 第22-23页 |
| 3.大气压介质阻挡放电特性比较 | 第23-29页 |
| 3.1 大气压单一空气及气液介质阻挡放电波形及放电照片 | 第23-26页 |
| 3.2 大气压单一空气与气液放电开始放电电压与稳定放电电压对比 | 第26-27页 |
| 3.3 不同放电溶液条件下的开始放电电压与稳定放电电压对比 | 第27-28页 |
| 3.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 4.PTFE薄膜表面改性处理 | 第29-53页 |
| 4.1 大气压气液两相介质阻挡放电等离子体对0.1mmPTFE薄膜的表面处理. | 第29-33页 |
| 4.1.1 薄膜表面水接触角随处理时间的变化 | 第29-30页 |
| 4.1.2 不同处理时间的扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| 4.1.3 处理前后的X射线光电子能谱 | 第31-33页 |
| 4.2 大气压单一空气及气液两相介质阻挡放电等离子体对0.03mmPTFE薄膜的表面处理 | 第33-42页 |
| 4.2.1 薄膜表面水接触角随处理时间的变化 | 第33-34页 |
| 4.2.2 两种不同等离子体在相同时间内对PTFE薄膜的处理对比 | 第34-38页 |
| 4.2.3 PTFE薄膜经大气压单一空气等离子体处理不同时间的效果对比 | 第38-42页 |
| 4.3 加入O_2的大气压混合气体及气液两相介质阻挡放电等离子体对PTFE薄膜的表面处理 | 第42-50页 |
| 4.3.1 等离子体处理时间对薄膜表面水接触角的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.2 大气压混合气体等离子体和气液两相等离子体对PTFE薄膜处理效果对比 | 第43-47页 |
| 4.3.3 大气压混合气体条件下的气液两相等离子体对PTFE薄膜处理不同时间的效果对比 | 第47-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-53页 |
| 5.结论与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 结论 | 第53-54页 |
| 5.2 展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 作者简历 | 第59-60页 |
| 学位论文数据集 | 第60页 |
