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掺杂对材料导电性影响的理论研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第15-30页
    1.1 导电高分子材料研究概述第15-24页
        1.1.1 碳纳米管的导电性–依赖于π共轭第15-18页
        1.1.2 聚硅烷的导电性–依赖于σ共轭第18-21页
        1.1.3 σ-π共轭导电高分子材料第21-23页
        1.1.4 B、P 掺杂碳纳米管/聚硅烷异质结研究的目的与意义第23-24页
    1.2 氮化钼导电材料研究概述第24-27页
        1.2.1 氮化钼的结构及电子性质第24-25页
        1.2.2 掺杂改善氮化钼导电性的研究第25-26页
        1.2.3 稀土掺杂δ-MoN 研究的目的与意义第26-27页
    1.3 课题来源及研究内容第27-30页
        1.3.1 课题来源第27页
        1.3.2 研究内容第27-30页
第2章 理论基础第30-46页
    2.1 密度泛函理论第30-37页
        2.1.1 Thomas-Fermi-Dirac 模型第31-32页
        2.1.2 Hoenberg-Kohn 定理第32-34页
        2.1.3 Kohn-Sham 方程第34-35页
        2.1.4 交换关联泛函第35-37页
    2.2 能带理论第37-42页
        2.2.1 布洛赫定理第37-39页
        2.2.2 布里渊区和能带第39-40页
        2.2.3 费米面和态密度第40-42页
    2.3 电子输运理论第42-45页
        2.3.1 平衡格林函数方法第42-43页
        2.3.2 非平衡格林函数方法第43-44页
        2.3.3 Landauer-Büttiker 公式第44-45页
    2.4 本章小结第45-46页
第3章 B、P 掺杂对碳纳米管/聚硅烷异质结导电性的影响第46-72页
    3.1 引言第46页
    3.2 理论模型与计算方法第46-50页
        3.2.1 理论模型第46-48页
        3.2.2 计算方法第48-50页
    3.3 几何结构第50-53页
    3.4 电子输运性质第53-70页
        3.4.1 NDR 效应第56-58页
        3.4.2 s-Si10P(c)、s-Si9PP 与 d-Si10P 比较第58-62页
        3.4.3 s-Si10B(c)、s-Si9BB 与 d-Si10B 比较第62-64页
        3.4.4 B 与 P 掺杂比较第64-65页
        3.4.5 不同掺杂位置比较第65-68页
        3.4.6 s-Si9BP 的整流效应第68-70页
    3.5 本章小结第70-72页
第4章 稀土掺杂对δ-MoN 导电性的影响第72-102页
    4.1 引言第72页
    4.2 理论模型与计算方法第72-78页
        4.2.1 理论模型第72-75页
        4.2.2 计算方法第75-78页
    4.3 晶体结构第78-85页
        4.3.1 δ-MoN 的晶体结构第78-79页
        4.3.2 Ln-MoN 的晶体结构第79-85页
    4.4 电子结构第85-95页
        4.4.1 δ-MoN 的电子结构第85-87页
        4.4.2 Ln-MoN 的电子结构第87-95页
    4.5 电子输运性质第95-100页
        4.5.1 电流-电压曲线第95-98页
        4.5.2 透射谱第98-100页
    4.6 本章小结第100-102页
结论第102-104页
参考文献第104-119页
攻读学位期间发表的学术论文第119-120页
致谢第120页

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