| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-56页 |
| 1.1 纳米石墨烯的研究背景和意义 | 第14页 |
| 1.2 纳米石墨烯分子的研究进展 | 第14-48页 |
| 1.2.1 蔻及其衍生物 | 第15-23页 |
| 1.2.2 平面六苯并蔻及其衍生物 | 第23-32页 |
| 1.2.3 扭曲六苯并蔻及其衍生物 | 第32-37页 |
| 1.2.4 大尺寸纳米石墨烯分子 | 第37-45页 |
| 1.2.5 曲面多环芳烃 | 第45-48页 |
| 1.3 论文的选题思路和研究内容 | 第48-56页 |
| 1.3.1 选题思路 | 第48-53页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第53-56页 |
| 第2章 中间体—1,3,5-三(3,4-二烷氧基苄基)苯的合成 | 第56-80页 |
| 2.1 引言 | 第56页 |
| 2.2 试剂与仪器 | 第56-57页 |
| 2.3 偶联法合成1,3,5-三(3,4-二烷氧基苄基)苯 | 第57-68页 |
| 2.3.1 合成路线(式2-2) | 第57页 |
| 2.3.2 实验步骤 | 第57-68页 |
| 2.4 三聚还原法合成1,3,5-三(3,4-二烷氧基苄基)苯 | 第68-75页 |
| 2.4.1 合成路线 | 第69页 |
| 2.4.2 实验步骤 | 第69-75页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第75-77页 |
| 2.6 小结 | 第77-80页 |
| 第3章 三重对称的多取代六苯并[a,d,g,j,m,p]蔻类化合物的合成及其结构表征 | 第80-116页 |
| 3.1 引言 | 第80-81页 |
| 3.2 合成实验 | 第81-98页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第82页 |
| 3.2.2 相关原料的合成 | 第82-84页 |
| 3.2.3 c-HBC的合成 | 第84-98页 |
| 3.3 晶体结构测定 | 第98-102页 |
| 3.3.1 c-HBC 3a的晶体结构测定 | 第98-99页 |
| 3.3.2 c-HBC 3o的晶体结构测定 | 第99-100页 |
| 3.3.3 c-HBC 3t的晶体结构测定 | 第100-102页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第102-115页 |
| 3.4.1 最佳反应条件的探索 | 第102页 |
| 3.4.2 反应的选择性 | 第102-105页 |
| 3.4.3 代表性化合物的核磁谱图和质谱分析 | 第105-106页 |
| 3.4.4 结构模拟 | 第106-107页 |
| 3.4.5 晶体结构 | 第107-115页 |
| 3.5 小结 | 第115-116页 |
| 第4章 三苯并[b,h,n]三噻吩并[e,k,q]蔻类化合物的合成及其结构表征 | 第116-144页 |
| 4.1 引言 | 第116-118页 |
| 4.2 实验部分 | 第118-130页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第118页 |
| 4.2.2 合成反应式 | 第118-123页 |
| 4.2.3 晶体结构测定实验 | 第123-130页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第130-143页 |
| 4.3.1 反应条件探索 | 第130-133页 |
| 4.3.2 TBTTC的核磁谱图和质谱分析 | 第133-135页 |
| 4.3.3 结构模拟 | 第135-137页 |
| 4.3.4 晶体结构分析 | 第137-143页 |
| 4.4 小结 | 第143-144页 |
| 第5章 六苯并[ab,de,lm,op,rs,uv]晕蔻类化合物的合成及其表征 | 第144-168页 |
| 5.1 引言 | 第144页 |
| 5.2 合成实验 | 第144-155页 |
| 5.2.1 试剂与仪器 | 第144-145页 |
| 5.2.2 相关原料的合成 | 第145-151页 |
| 5.2.3 六苯并[ab,de,lm,op,rs,uv]晕蔻的合成 | 第151-155页 |
| 5.3 晶体结构测定 | 第155-156页 |
| 5.3.1 HBCC 5c的晶体培养,测试和解析方法 | 第155页 |
| 5.3.2 晶体参数和结构精修参数 | 第155-156页 |
| 5.4 结果与讨论 | 第156-166页 |
| 5.4.1 相关原料制备的细节 | 第156-157页 |
| 5.4.2 HBCC合成条件探索 | 第157-159页 |
| 5.4.3 HBCC的质谱和核磁谱图分析 | 第159-161页 |
| 5.4.4 结构模拟 | 第161-162页 |
| 5.4.5 晶体结构分析 | 第162-166页 |
| 5.5 小结 | 第166-168页 |
| 第6章 三重对称纳米石墨烯分子的性质初步研究 | 第168-186页 |
| 6.1 三重纳米石墨烯分子的紫外光谱研究 | 第168-173页 |
| 6.1.1 紫外光谱 | 第168-172页 |
| 6.1.2 代表性化合物的紫外光谱比较 | 第172-173页 |
| 6.2 激发和发射光谱 | 第173-180页 |
| 6.2.1 激发和发射光谱 | 第174-178页 |
| 6.2.2 代表性化合物的荧光光谱比较 | 第178页 |
| 6.2.3 HBCC 5c的荧光量子产率 | 第178-180页 |
| 6.3 热稳定性 | 第180-182页 |
| 6.4 电化学性质 | 第182-185页 |
| 6.4.1 循环伏安实验步骤 | 第182-184页 |
| 6.4.2 结果与讨论 | 第184-185页 |
| 6.5 小结 | 第185-186页 |
| 第7章 全文总结 | 第186-190页 |
| 参考文献 | 第190-204页 |
| 致谢 | 第204-206页 |
| 附图部分 | 第206-334页 |
| 攻读博士学位期间研究成果 | 第334页 |
