| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 氧化钐简介 | 第10页 |
| 1.3 提高光催化活性的途径 | 第10-13页 |
| 1.3.1 贵金属修饰 | 第11-12页 |
| 1.3.2 半导体复合 | 第12页 |
| 1.3.3 表面光敏化 | 第12页 |
| 1.3.4 形貌调控 | 第12-13页 |
| 1.4 薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.4.1 水热法 | 第13页 |
| 1.4.2 沉淀法 | 第13页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第13页 |
| 1.4.4 磁控溅射法 | 第13-14页 |
| 1.4.5 真空蒸镀法 | 第14-15页 |
| 1.4.6 溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| 1.5 课题的选题依据、研究内容和创新点 | 第15-16页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第15页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第15页 |
| 1.5.3 创新点 | 第15-16页 |
| 2 Sm_2O_3薄膜的制备及性能研究 | 第16-36页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 实验内容 | 第16-20页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第16-17页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第17页 |
| 2.2.3 薄膜制备的工艺流程 | 第17-19页 |
| 2.2.4 薄膜的表征和性能测试 | 第19-20页 |
| 2.3 不同浓度对薄膜的影响 | 第20-23页 |
| 2.4 不同干燥温度对薄膜的影响 | 第23-27页 |
| 2.5 不同晶化温度对薄膜的影响 | 第27-31页 |
| 2.6 不同保温时间对薄膜的影响 | 第31-34页 |
| 2.7 Sm_2O_3薄膜光催化降解分析 | 第34-35页 |
| 2.8 本章小结 | 第35-36页 |
| 3 Ag/Sm_2O_3薄膜的制备及性能研究 | 第36-51页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-38页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第36页 |
| 3.2.2 实验设备 | 第36页 |
| 3.2.3 Ag/Sm_2O_3薄膜的制备的工艺流程 | 第36-37页 |
| 3.2.4 薄膜的表征测试 | 第37-38页 |
| 3.3 不同Ag含量对Ag/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第38-42页 |
| 3.4 不同晶化温度对Ag/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第42-45页 |
| 3.5 不同保温时间对Ag/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第45-49页 |
| 3.6 Ag/Sm_2O_3薄膜光催化降解分析 | 第49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 4 ZnO/Sm_2O_3薄膜的制备及性能研究 | 第51-65页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验部分 | 第51-53页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第51页 |
| 4.2.2 实验设备 | 第51页 |
| 4.2.3 ZnO/Sm_2O_3薄膜的制备的工艺流程 | 第51-53页 |
| 4.2.4 薄膜的表征测试 | 第53页 |
| 4.3 不同Zn含量对ZnO/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第53-56页 |
| 4.4 不同晶化温度对ZnO/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第56-60页 |
| 4.5 不同保温时间对ZnO/Sm_2O_3薄膜的影响 | 第60-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 5 结论及展望 | 第65-66页 |
| 5.1 主要结论 | 第65页 |
| 5.2 工作展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利成果 | 第75-76页 |
