| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 液态电子墨水显示技术 | 第10-17页 |
| 1.2 新型固态纳米薄膜显示技术 | 第17-21页 |
| 1.2.1 静态光学薄膜显色技术 | 第17-19页 |
| 1.2.2 基于相变材料的动态光学显色技术 | 第19-21页 |
| 1.3 本课题的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 薄膜生长与表征 | 第23-43页 |
| 2.1 GST相变薄膜制备与表征 | 第23-37页 |
| 2.1.1 相变材料简介 | 第23-26页 |
| 2.1.2 磁控溅射薄膜生长技术 | 第26-28页 |
| 2.1.3 GST薄膜生长与表征流程 | 第28-37页 |
| 2.2 透明导电ITO薄膜制备与表征 | 第37-42页 |
| 2.2.1 ITO材料简介 | 第37-38页 |
| 2.2.2 ITO薄膜生长与表征流程 | 第38-42页 |
| 2.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 IGP结构和GIP结构的色彩仿真与对比 | 第43-55页 |
| 3.1 相变显示结构的光学计算仿真理论 | 第43-50页 |
| 3.1.1 传输矩阵计算理论 | 第43-46页 |
| 3.1.2 色度学基本理论和CIE标准色度系统 | 第46-49页 |
| 3.1.3 完整仿真流程的实现过程 | 第49-50页 |
| 3.2 IGP结构和GIP结构的色彩仿真与对比 | 第50-53页 |
| 3.2.1 IGP和GIP结构的热致多色调制仿真 | 第50-52页 |
| 3.2.2 IGP和GIP结构的色域仿真 | 第52-53页 |
| 3.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 第4章 IGIP结构的顶层ITO厚度调制及色域拓展 | 第55-68页 |
| 4.1 IGIP相变显示结构的顶层ITO厚度调制 | 第55-61页 |
| 4.2 基于单层超薄GST相变层的IGIP三色调制 | 第61-64页 |
| 4.3 IGIP显色结构的色域拓展 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 基于二氧化钒的新型相变显示技术 | 第68-78页 |
| 5.1 二氧化钒的相变特性 | 第69-72页 |
| 5.2 基于VO_2的相变显示结构的色彩仿真 | 第72-77页 |
| 5.2.1 VO_2相变层在新型IVIP结构中的光学反差能力研究 | 第73-75页 |
| 5.2.2 IVIP结构的多色调制仿真 | 第75-77页 |
| 5.3 本章小结 | 第77-78页 |
| 第6章 总结与展望 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 作者简历 | 第86页 |
