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氧化硅薄膜裂纹形貌及影响因素的研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
引言第9-10页
第1章 绪论第10-28页
    1.1 研究背景与意义第10页
    1.2 薄膜材料简介第10-13页
    1.3 薄膜制备方法概括第13-15页
        1.3.1 化学气相沉积法第13-14页
        1.3.2 物理气相沉积法第14-15页
    1.4 二氧化硅和氧化硅薄膜的性质及应用第15-17页
        1.4.1 二氧化硅的物化性质第15-16页
        1.4.2 氧化硅薄膜的基本性质及应用第16-17页
    1.5 薄膜应力的来源和释放机制第17-19页
    1.6 裂纹生长模式和裂纹形貌的调研第19-26页
        1.6.1 裂纹的研究背景和意义第19-20页
        1.6.2 薄膜中的裂纹现象第20页
        1.6.3 裂纹前端应力场第20-22页
        1.6.4 界面裂纹的类型第22-24页
        1.6.5 复杂裂纹的研究进程第24-25页
        1.6.6 裂纹形貌研究的难点第25-26页
    1.7 本文研究的主要内容第26-28页
第2章 实验与测试方法第28-36页
    2.1 溶胶凝胶法的概述第28-31页
        2.1.1 溶胶凝胶法的基本名词和概念第28页
        2.1.2 溶胶凝胶技术的发展和应用第28-29页
        2.1.3 溶胶凝胶法的工艺过程第29-31页
        2.1.4 溶胶凝胶法技术的特点第31页
    2.2 实验方法第31-35页
        2.2.1 实验参数的选取第32-33页
        2.2.2 实验试剂与仪器第33-34页
        2.2.3 实验步骤第34-35页
    2.3 测试方法第35-36页
第3章 裂纹的整体形貌与扩展类型第36-42页
    3.1 不同裂纹的整体形貌第36-38页
    3.2 裂纹的不同扩展类型第38-40页
    3.3 裂纹的转变第40-42页
第4章 影响裂纹形貌的因素第42-56页
    4.1 界面强度的影响第42-43页
    4.2 薄膜厚度的影响第43-51页
        4.2.1 薄膜厚度对裂纹类型的影响第45-49页
        4.2.2 薄膜厚度对裂纹波长的影响第49-51页
    4.3 初始形核生长的影响第51-52页
    4.4 特殊裂纹形貌第52-56页
第5章 数值方法第56-60页
    5.1 相场方法介绍第56-58页
    5.2 模拟结果第58-60页
第6章 结论与展望第60-62页
参考文献第62-66页
致谢第66-68页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第68页

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