| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 文献综述 | 第9-19页 |
| 1.1 多晶硅的定义及性质 | 第9页 |
| 1.2 多晶硅的利用价值 | 第9-10页 |
| 1.3 多晶硅的发展状况 | 第10-12页 |
| 1.3.1 国内的多晶硅发展状况 | 第10-11页 |
| 1.3.2 国外的多晶硅发展状况 | 第11-12页 |
| 1.4 多晶硅的生产工艺 | 第12-17页 |
| 1.4.1 西门子法 | 第13页 |
| 1.4.2 硅烷法 | 第13-15页 |
| 1.4.3 流化床法 | 第15-16页 |
| 1.4.4 冶金法 | 第16-17页 |
| 1.5 本论文课题研究的目的和意义 | 第17-19页 |
| 第2章 西门子法还原反应 | 第19-25页 |
| 2.1 三氯氢硅的性质 | 第19-20页 |
| 2.1.1 三氯氢硅的物理性质 | 第19页 |
| 2.1.2 三氯氢硅的化学性质 | 第19-20页 |
| 2.2 氢气的化学性质 | 第20-21页 |
| 2.3 西门子法还原工序反应机理 | 第21页 |
| 2.4 西门子法还原反应器 | 第21-22页 |
| 2.5 还原反应影响因素分类 | 第22-25页 |
| 2.5.1 还原反应对多晶硅内在质量影响 | 第22-23页 |
| 2.5.2 还原反应对多晶硅表观质量的影响 | 第23-24页 |
| 2.5.3 还原反应对多晶硅表观质量影响的量化指标 | 第24-25页 |
| 第3章 多晶还原反应影响因素 | 第25-35页 |
| 3.1 炉内温度对还原反应的影响 | 第25-28页 |
| 3.2 炉内压力对还原反应的影响 | 第28页 |
| 3.3 反应配比对还原反应的影响 | 第28-29页 |
| 3.4 炉内喷嘴形式对还原反应的影响 | 第29页 |
| 3.5 炉内硅棒数量对还原反应的影响 | 第29-30页 |
| 3.6 硅芯对还原反应的影响 | 第30-31页 |
| 3.7 混合气组成的影响 | 第31-32页 |
| 3.8 炉筒内壁材质及光洁度 | 第32-35页 |
| 第4章 还原炉过程参数优化实验 | 第35-55页 |
| 4.1 提高硅棒温度的实验 | 第35-37页 |
| 4.1.1 提温前还原炉运行数据统计 | 第35页 |
| 4.1.2 提温后还原炉运行数据统计 | 第35-36页 |
| 4.1.3 提温前后还原炉数据对比 | 第36页 |
| 4.1.4 提温后硅棒运行情况 | 第36-37页 |
| 4.1.5 提高硅棒温度实验结论 | 第37页 |
| 4.2 提高还原炉压力的实验 | 第37-39页 |
| 4.2.1 提压前还原炉运行数据统计 | 第37页 |
| 4.2.2 提压后还原炉运行数据统计 | 第37-38页 |
| 4.2.3 提压前后还原炉数据对比 | 第38页 |
| 4.2.4 出炉情况对比 | 第38-39页 |
| 4.2.5 还原炉提压结论 | 第39页 |
| 4.3 调整混合气配比的实验 | 第39-47页 |
| 4.3.1 H2与SiHC13不同配比下的实验数据 | 第39-43页 |
| 4.3.2 各配比条件下试验数据对比分析 | 第43-47页 |
| 4.4 优化喷嘴的实验 | 第47-50页 |
| 4.4.1 喷嘴优化思路 | 第47-48页 |
| 4.4.2 喷嘴流场模拟 | 第48-49页 |
| 4.4.3 喷嘴温场模拟 | 第49页 |
| 4.4.4 直通喷嘴实验数据 | 第49页 |
| 4.4.5 直通喷嘴实验分析 | 第49-50页 |
| 4.5 优化硅芯的实验 | 第50-51页 |
| 4.5.1 运行指标数据 | 第50-51页 |
| 4.5.2 实验分析 | 第51页 |
| 4.6 还原通二氯二氢硅实验 | 第51-55页 |
| 4.6.1 实验数据统计 | 第51-52页 |
| 4.6.2 实验对比分析 | 第52-55页 |
| 第5章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 论文结论 | 第55-56页 |
| 5.2 论文展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |