择优取向的二氧化钛薄膜低温液相法制备研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 二氧化钛薄膜的基本性质 | 第11-15页 |
| 1.3 二氧化钛薄膜的研究进展 | 第15-21页 |
| 1.3.1 物理制备方法制备TiO_2薄膜 | 第15-17页 |
| 1.3.2 化学制备方法制备TiO_2薄膜 | 第17-21页 |
| 1.4 二氧化钛薄膜的应用 | 第21-22页 |
| 1.4.1 表面自清洁 | 第21页 |
| 1.4.2 抗菌净化 | 第21页 |
| 1.4.3 其他应用 | 第21-22页 |
| 1.5 本文的研究意义和主要内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验内容及表征方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验部分 | 第23-25页 |
| 2.1.1 实验材料及仪器 | 第23-24页 |
| 2.1.2 基片预处理 | 第24页 |
| 2.1.3 沉积液制备 | 第24-25页 |
| 2.1.4 薄膜制备 | 第25页 |
| 2.1.5 TiO_2薄膜光催化降解罗丹明B溶液 | 第25页 |
| 2.2 表征方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第26页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第26页 |
| 2.2.3 紫外可见分光光度计 | 第26-27页 |
| 2.2.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第27-28页 |
| 第三章 玻璃基板二氧化钛薄膜的前期研究 | 第28-33页 |
| 3.1 基底处理对薄膜沉积的影响 | 第28-30页 |
| 3.2 氟离子消耗剂对薄膜沉积的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 薄膜开裂问题研究 | 第31-32页 |
| 3.4 薄膜取向性生长研究 | 第32页 |
| 3.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 玻璃基板二氧化钛薄膜的制备研究 | 第33-46页 |
| 4.1 沉积液浓度对薄膜沉积的影响 | 第33-35页 |
| 4.2 水浴温度对薄膜沉积的影响 | 第35-37页 |
| 4.3 水浴时间对薄膜沉积的影响 | 第37-39页 |
| 4.4 酸碱度pH值对薄膜沉积的影响 | 第39-44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 柔性基底二氧化钛薄膜的制备研究 | 第46-55页 |
| 5.1 PMMA基底二氧化钛薄膜的制备研究 | 第46-49页 |
| 5.2 PP基底二氧化钛薄膜的制备研究 | 第49-51页 |
| 5.3 织物基底二氧化钛薄膜的制备研究 | 第51-52页 |
| 5.4 织物基底二氧化钛薄膜的光催化性能 | 第52-54页 |
| 5.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第64页 |
