摘要 | 第9-11页 |
ABSTRACT | 第11-12页 |
第一章 绪论 | 第13-50页 |
1.1 概述 | 第13-14页 |
1.2 高温透波材料体系及研究现状 | 第14-17页 |
1.2.1 有机透波材料 | 第14-15页 |
1.2.2 无机透波材料 | 第15-17页 |
1.3 高温透波复合材料增强体研究现状及进展 | 第17-23页 |
1.3.1 石英纤维 | 第17-18页 |
1.3.2 BN纤维和纳米管 | 第18-19页 |
1.3.3 氮化硅纤维和晶须 | 第19-20页 |
1.3.4 硅氮氧和硅硼氮纤维 | 第20-21页 |
1.3.5 氮化硅纳米线 | 第21-23页 |
1.4 氮化硅纳米线的制备方法 | 第23-27页 |
1.4.1 气相生长法 | 第23-26页 |
1.4.2 液相生长法 | 第26-27页 |
1.4.3 模板法 | 第27页 |
1.5 氮化硅陶瓷的成型及烧结工艺进展 | 第27-48页 |
1.5.1 氮化硅陶瓷成型工艺 | 第28-29页 |
1.5.2 氮化硅陶瓷烧结工艺 | 第29-48页 |
1.6 选题依据和研究内容 | 第48-50页 |
1.6.1 选题依据 | 第48-49页 |
1.6.2 研究内容 | 第49-50页 |
第二章实验与研究方法 | 第50-57页 |
2.1 实验原料及试剂 | 第50-51页 |
2.2 实验过程 | 第51-53页 |
2.2.1 气-固相法合成Si_3N_4纳米线 | 第51页 |
2.2.2 无压烧结法制备氮化硅纳米线增强氮化硅复合材料 | 第51-53页 |
2.3 分析测试及表征方法 | 第53-57页 |
2.3.1 组成、结构与形貌分析 | 第53-54页 |
2.3.2 性能测试 | 第54-57页 |
第三章氮化硅纳米线的制备及其性能研究 | 第57-72页 |
3.1 氮化硅纳米线的制备 | 第57-64页 |
3.1.1 氮化硅纳米线及制备原料的组成、结构及形貌表征 | 第57-63页 |
3.1.2 合成温度和保温时间对氮化硅纳米线微观形貌的影响 | 第63-64页 |
3.2 氮化硅纳米线的反应及生长机理 | 第64-66页 |
3.3 氮化硅纳米线表面元素分析及其高温抗氧化性 | 第66-70页 |
3.3.1 氮化硅纳米线的表面元素分析 | 第66-69页 |
3.3.2 氮化硅纳米线的高温抗氧化性 | 第69-70页 |
3.4 本章小结 | 第70-72页 |
第四章氮化硅纳米线增强氮化硅复合材料的制备及性能 | 第72-90页 |
4.1 SNNWs/Si_3N_4复合材料宏观物理性能及物相组成变化 | 第73-76页 |
4.1.1 SNNWs/Si_3N_4复合材料宏观物理性能变化 | 第73-75页 |
4.1.2 SNNWs/Si_3N_4复合材料物相组成变化 | 第75-76页 |
4.2 SNNWs/Si_3N_4复合材料断口微观形貌及力学性能变化 | 第76-83页 |
4.2.1 SNNWs/Si_3N_4复合材料断口微观形貌变化 | 第76-80页 |
4.2.2 SNNWs/Si_3N_4复合材料力学性能变化 | 第80-83页 |
4.3 SNNWs/Si_3N_4复合材料的介电性能 | 第83-85页 |
4.4 SNNWs/Si_3N_4复合材料的韧性断裂机理研究 | 第85-88页 |
4.5 本章小结 | 第88-90页 |
结束语 | 第90-92页 |
致谢 | 第92-94页 |
参考文献 | 第94-109页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第109页 |